二手 OXFORD Plasmalab 133 #9151442 待售

ID: 9151442
Reactive Ion Etcher (RIE) Ion Coupled Plasma Etcher Chamber size: 380 VAT Gate valve with PM5 controller ADVANCED ENERGY RFX600A & HFV 8000 RF Power supplies ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 1000M Turbo pump with NT20 Controller Endpoint detector type: TB-XY-MA16 Match work and tuner Manual load lock Ceramic clamp (8) Mass flow controllers Power supply: 208 V, 60 Hz.
OXFORD Plasmalab 133是一款由OXFORD Instruments生產的蝕刻機和asher設備。它是一個先進的低壓蝕刻器和asher組合平臺。該系統設計用於半導體器件加工,包括聚合物、金屬、電介質和陶瓷。該單元是處理薄膜、MEMS設備、LED、RF模塊和其他高性能設備的理想工具。Plasmalab 133包括允許用戶精確控制蝕刻、沈積或去除材料的功能和工具。該蝕刻器使用戶能夠生產幹凈且均勻的蝕刻層,以創建高精度電子設備。Asher提供了非常精細和高分辨率的薄膜材料濺射沈積。OXFORD Plasmalab 133具有強大的高分辨率磁控管濺射技術,提供了具有卓越特性粘附的膜的均勻沈積。這臺機器還配備了各向異性蝕刻源和高度模塊化的加工室,允許同時對幾種材料進行蝕刻和加工。它還具有先進的自動化功能,可實現完整的過程控制和用戶友好的界面。Plasmalab 133能夠處理廣泛的材料,包括矽、鋁、砷化氙、銅和類似金剛石的碳。它也是為了滿足半導體器件制造的嚴格要求而設計的,可用於各種應用,如電子發射加速、雙極薄膜形成、化學機械平面化、選擇性面積圖樣化等。此工具提供高級流程控制算法,允許用戶調整流程參數並監視資產。Advanced Process Control (APC)功能會不斷監視和評估您的流程參數,並自動調整相應的設置以保持最佳流程結果。此外,該模型是為在惡劣的環境條件下運行而設計的,並具有集成真空和氣體供應。此外,它還配備了一系列安全功能和滅火設備,以保護您的人員和流程。OXFORD Plasmalab 133是任何希望在制造高性能電子設備時實現最高精度和準確性的工程師的完美蝕刻和asher組合平臺。該系統設計可靠、高效,為各種材料的全精度蝕刻沈積提供了先進平臺。
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