二手 OXFORD Plasmalab 80 Plus #293616592 待售

OXFORD Plasmalab 80 Plus是一種專業的蝕刻和灰化設備，用於生產各種微電子元件。這種設備在生產過程中為用戶提供了無與倫比的精確度和速度。Plasmalab 80 Plus利用最先進的等離子體生成室產生反應性離子；當這些離子與被蝕刻或灰化的材料接觸時，基材與所需表面之間的伽馬層會迅速而準確地溶解。這使得蝕刻和灰化工藝比傳統方法更加高效、準確和精確。OXFORD Plasmalab 80 Plus包含一個25微米的等離子體源，其功率設置在0-1000瓦之間，最高溫度為30°C。它可以達到每分鐘最多一微米的蝕刻速率，取決於基材的條件，最小瀝青侵蝕為2000納米。機器還包括一個溫度控制單元，它允許蝕刻或灰化過程的溫度進行調整，以適應基材材料。這使用戶能夠準確控制生產過程的準確性和精確度。Plasmalab 80 Plus的工藝氣體系統由各種氣態元素組成，包括氧氣（O2）、鹽酸（HCl）、六氟化硫（SF6）、三氟化氮（NF3）等，可用於滿足不同底物材料的特定工藝要求。設備還配備了真空裝置，可以讓基材快速放入蝕刻和灰化加工環境，而不會損壞材料。這提高了生產過程的安全性和準確性。總體而言，OXFORD Plasmalab 80 Plus是一種高度精確和高效的蝕刻和灰化機，可產生準確、精確的結果，且廢料最少。其深入的操作特點和全面的設計使其適合多種微電子制造工藝。