二手 OXFORD Plasmalab 80 Plus #293697553 待售
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ID: 293697553
晶圓大小: 4"-6"
優質的: 1995
PECVD System, 4"-6"
Deposition: SiO2, SiH4 at 300°C
No burner gas abatement
EDWARDS E2M80 Vacuum pump
Mass Flow Controller (MFC)
RF Generator
PC Controller
1995 vintage.
OXFORD Plasmalab 80 Plus是一款高度先進的蝕刻/asher設備,采用等離子體技術,設計用於半導體制造和研究應用中的精密蝕刻和灰化工藝。Plasmalab 80 Plus由OXFORD Instruments開發,OXFORD Instruments是各行業高科技儀器的領先供應商,以其卓越的性能、可靠性和在處理各種材料和基材方面的多功能性而聞名。OXFORD Plasmalab 80 Plus系統的核心是其先進的等離子體源技術,它產生了一個非常適合蝕刻和灰化過程的高反應性等離子體環境。該裝置利用射頻和微波能量相結合,產生一種受控的等離子體放電,有效地分解並以高精度和均勻性從基板表面清除材料。等離子體源配備了精密的阻抗匹配和調諧能力,以維持穩定的等離子體條件,優化工藝性能。Plasmalab 80 Plus的特點是具有可變電源的大型工藝室,允許用戶根據特定工藝要求量身定制等離子能量密度和分布。該機提供多種氣體註入選項,包括氧氣、氟氣和氯氣等反應性氣體,以及氙氣和氦氣等惰性氣體,從而能夠在精確控制蝕刻速率、選擇性和輪廓特征的情況下進行各種蝕刻和灰化過程。在基板處理和工藝控制方面,OXFORD Plasmalab 80 Plus配備了一個多功能的樣板臺,能夠容納各種尺寸和類型的基板,包括晶圓、光掩模和平板顯示器。該工具專為使用直觀的軟件界面實現自動化操作而設計,允許用戶實時編程和監視流程參數,從而確保在多個處理運行中實現可重現和一致的結果。安全性和可靠性是Plasmalab 80 Plus資產設計中的首要考慮,內置互鎖機構、氣流監測、真空壓力傳感器等功能,確保安全高效運行。該模型還配備了先進的診斷工具和實時監控功能,以檢測和響應過程條件中的任何異常或偏差,最大限度地減少停機時間並優化生產效率。總體而言,OXFORD Plasmalab 80 Plus是一款尖端的蝕刻/asher設備,代表了半導體制造和研究應用等離子體加工技術的巔峰之作。Plasmalab 80 Plus憑借其先進的等離子體源技術、靈活的過程控制功能和堅固的設計,為蝕刻和灰化工藝提供了無與倫比的性能和多功能性,使其成為尋求實現設備制造最高精度和質量的研究人員和制造商不可或缺的工具。
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