二手 OXFORD Plasmalab 80 Plus #293698011 待售

OXFORD Plasmalab 80 Plus是一款高度先進的蝕刻/asher設備，設計用於半導體器件制造和研究應用中精確高效的等離子體處理。該系統以在等離子體蝕刻、灰化和表面改性過程中產生高質量結果的多功能性、靈活性和可靠性而著稱。Plasmalab 80 Plus配備了廣泛的特性和功能，使其適合多種材料和應用。它能夠處理各種尺寸和材料的基材，包括矽、砷化​​氙、玻璃和陶瓷。該單元提供反應性離子蝕刻（RIE）和感應耦合等離子體（ICP）蝕刻模式，允許用戶根據自己的特定需求選擇最合適的工藝。OXFORD Plasmalab 80 Plus的一個關鍵特點是其先進的過程控制能力。該機配備了強大的射頻發生器，能夠精確控制功率、壓力和氣體流速等等離子參數。這允許用戶優化工藝條件,以實現最大的蝕刻或灰度效率,同時確保批次的均勻性和可重復性。Plasmalab 80 Plus還配備了一種通用的氣體處理工具，能夠使用各種加工氣體，包括氧氣、氟氣、氯氣和氙氣等。這允許使用者自訂等離子體的化學性質，以達到特定的蝕刻或灰化結果，例如高選擇性、各向異性蝕刻或各向同性等離子體清潔。除了先進的工藝控制和氣體處理能力外，OXFORD Plasmalab 80 Plus還配備了先進的端點檢測資產，能夠實時監測蝕刻或灰化過程。該模型使用光發射光譜（OES）來檢測等離子體中特定化學物種的存在，允許用戶準確確定過程的終點，避免過度蝕刻或不充分蝕刻。Plasmalab 80 Plus專為易於使用和維護而設計,其用戶友好界面允許直觀操作設備。該系統還配備了自動清潔程序和診斷工具，有助於確保設備的長期可靠性和性能。總體而言,OXFORD Plasmalab 80 Plus是一款尖端蝕刻機/asher機器,在等離子體處理方面提供無與倫比的多功能性、精確度和效率。無論是用於半導體器件的制造、研究，還是其他應用，這種工具都一定能提供高質量的結果，滿足現代等離子體處理技術的苛刻要求。