二手 OXFORD Plasmalab 80 Plus #9260764 待售
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已售出
ID: 9260764
晶圓大小: 6"
優質的: 1997
Reactive Ion Etcher (RIE), 6"
Gases: SF6, CHF3, Ar, O2, N2, H2
Cryogenic head
Capable of etching at 77K (LN2 Temperature)
Goes up to 50°C (323K)
(3) Gas mass controllers with valves
Backing pump
1997 vintage.
OXFORD Plasmalab 80 Plus是一種先進的反應性離子蝕刻器(RIE),用於電子、光學和生物醫學設備的微加工。蝕刻器結合了高端性能、最大兼容性和靈活性,以及出色的人性化操作。先進的設備配備了先進的計算機控制平臺,高吞吐量的雙室設計,以及堅固、符合人體工程學的真空系統。該設備的第一代RIE技術能夠以統一、可重復的方式提供精確的蝕刻精度。它具有全面的計算機控制界面,並可能添加多個並發進程。其高通量架構允許金屬、玻璃等各種材料的快速蝕刻。它還提供了與各種不同材料的出色兼容性,同時提供模擬和數字平臺。Plasmalab 80 Plus提供精確的深度剖析,可重復精度為1.5厘米,分辨率為0.2厘米。其腔室可凈化至1.103毫巴,以完全清除所有工藝殘留物。其先進的控制機器能夠精確控制所有參數,包括配方選擇、基板溫度、射頻功率、射頻頻率、直流偏壓、真空、流量等等。其絕緣設計保證了反應性離子蝕刻的最佳電離條件,提供了均勻的蝕刻速率和增強的選擇性。手動氣流控制可以微調蝕刻速率和結果的均勻性。此外,該工具還包括一個集成的負載鎖定資產,可確保在每個周期中安全的物料處理和自動化的過程控制。OXFORD Plasmalab 80 Plus還配備了多種配件,如晶片支架、覆蓋物和額外的加工設備。這允許根據特定的客戶要求進行自定義設置,並使其成為各種應用程序的最佳選擇。總體而言,Plasmalab 80 Plus是一款先進可靠的反應性離子蝕刻器模型,提供了卓越的精度和可重復性,在各種應用中都能取得完美的效果。設備的靈活性和兼容性使其成為任何微加工工藝的理想選擇。
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