二手 OXFORD Plasmalab 80 Plus #9409921 待售

ID: 9409921
晶圓大小: 8"
優質的: 2009
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) System, 8" Diameter electrode: 460 mm, 4"-12" Chamber uniformity: <2% Silicon nitride and silicon dioxide layers Top electrode, 18.75" With shower head gas Electronics and vacuum component Mass flow controller Wall mounted gas pod (6) MFC Gas controllers Gases: He, N2, N2O, NH3, 5% SIH4 / 95% N2, 80% CF4- 20% O2 PC Controller Advanced graphics and process recipe pages Vacuum pump and blower package Power supply: 208 V, 18 A, 3Phase 2009 vintage.
OXFORD Plasmalab 80 Plus是一款最先進的蝕刻器/asher,旨在在各種商業和實驗室環境中提供精確高效的性能。它采用最新技術和先進的工藝流程,以精確的厚度快速準確地構建金屬和其他材料層。該機以精心設計的腔室和泵總成為基礎,能夠以500毫巴的速度抽出高達55升的氙氣。這是由高精度軟件包控制的,該軟件包使用戶能夠準確監視和控制蝕刻/灰化過程。腔室配備了最新的電子光學器件,有助於更高效、更準確地進行蝕刻/灰化過程。還安裝了專用的電感耦合等離子體(ICP)源,這些源由質量最高的材料制成,可提供高達1000 W的功率沈積。通過這些改進的源和光學器件,Plasmalab 80 Plus能夠在短短幾分鐘內取得優異的蝕刻/灰化性能。此外,源可以使蝕刻/灰化速度比以前快50%。這款蝕刻器/asher的其他部件包括高性能渦輪分子真空泵和快速質量流控制器(MFC)。真空泵在過程中可以達到1.3 x 10-5 Torr的頂壓,而MFC提供高速溫度控制。使用單獨的組件,通過提供額外的高功率電源和高級過程控制來優化蝕刻/灰化過程。OXFORD Plasmalab 80 Plus的高精度使其在競爭對手中脫穎而出。它可以將蝕刻/灰度參數精確地調整到千分之一毫米,使用戶能夠產生非常精確的結果。機器的可靠性能也確保了最小的浪費和成本,因為它始終產生一致和準確的結果。總體而言,Plasmalab 80 Plus是那些在項目中需要精確高效蝕刻/灰化的用戶的理想選擇。憑借其先進的設計、可靠的性能和高精度,它非常適合商業和實驗室環境。它的價格似乎很高,但這臺機器提供了極好的投資回報。
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