二手 OXFORD Plasmalab 80 #293647911 待售

ID: 293647911
Reactive Ion Etcher (RIE) Gases: RIE Chamber: Ar, O2, SiCl4, H2, SF6, CF4 CVD Chamber: SiH4, N2O, NH3, SF6, N2.
OXFORD Plasmalab 80是一種可靠的高性能蝕刻器/asher真空設備,非常適合各種實驗室應用。該系統一次可以在一個或兩個基板上蝕刻或灰燼單層或多層樣品。它還提供了可供選擇的工作氣體的多種選擇,允許用戶定制其加工條件,如蝕刻或灰度時間、溫度、功率和壓力設置等等。Plasmalab 80具有易於訪問的處理室和直觀的觸摸屏界面,可實現快速高效的設置。該腔室的尺寸約為200毫米深x 400毫米寬x 150毫米高,可在真空或壓力模式下安全操作。該腔室還具有頂部安裝的射頻陰極和平面感應線圈,使蝕刻和灰化功率得到最佳分配。此外,該腔室還配備了一個氣體入口、一個氣體廢氣和一個真空閥,可單獨控制,以便精確設置。OXFORD Plasmalab 80具有高分辨率的彩色觸摸屏顯示屏,便於參數設置和直觀的用戶界面。該單元支持從直流或射頻平面蝕刻/灰化到感應耦合等離子體蝕刻或高溫退火等多種工藝條件。此外,Plasmalab 80還配備了Langmuir探頭,用於工藝室的診斷和溫度控制。OXFORD Plasmalab 80是一種高度精確的機器,可以預先設定為重複相同的蝕刻和灰化過程,讓使用者以最少的輸入達到可重複的結果。此外,該工具還包括一種用於減少納米顆粒汙染的慣性氣體清洗資產,以及可擴展的模式發生器軟件以方便地修改模式。總體而言,Plasmalab 80是一種簡單可靠的蝕刻器/asher真空模型,非常適合用於研發、蝕刻、灰化和退火等任務。對於尋求可靠、高性能、便於快速處理和可重復結果的設備的實驗室來說,這是一個極好的選擇。
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