二手 OXFORD Plasmalab 90 #293619113 待售

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OXFORD Plasmalab 90
已售出
ID: 293619113
晶圓大小: 3"-8"
優質的: 2001
PECVD System, 3"-8" With load lock Stack vacuum pumps: EDWARDS Booster EH500 EDWARDS Dry pump DP80 (6) Gases: SiH4: 50 sccm NH3: 50 sccm O2: 200 sccm N2O: SLPM C2F6: 500 sccm N2: 4 SLPM Process chamber: Heated chuck Temperature range: 700°C Electric heating Power: 3 kW 2001 vintage.
OXFORD Plasmalab 90是一種先進的蝕刻器和asher設備,用於各種行業的微加工工藝。這一可靠的系統被廣泛用於為醫療植入物、MEMS設備和光伏等一系列應用創建集成電路(ICs)和其他組件。這一單元的主要優點包括能夠精確、均勻地蝕刻、清潔和沈積厚度達到30 µm的指定範圍內的金屬層。Plasmalab 90機設有9軸可移動機器人臂和允許同時蝕刻和灰化多個樣品的真空室。它配備了不同的來源,連同3個主要來源(E-gun、離子束、Magnetron濺射炮)。每一個來源都有獨特的能力,可以在納米級進行蝕刻、灰化和金屬沈積。此外,該工具還包括一個可以在加工過程中精確測量氣體濃度的原位氣體監測器。該資產還配備了一個RAM源(Reactive Atomic Mixing),用於將雜質引入等離子體,以幫助增強蝕刻或重整性能。它利用電弧借助磁場產生穩定的粒子流動。這有助於產生恒定的碰撞離子、電子和其他粒子流,這有助於改善蝕刻過程。OXFORD Plasmalab 90型號還配備了集成熱像儀,幫助監測晶圓的溫度變化,以確保更均勻的蝕刻過程。此外,該設備還與可編程邏輯控制器(PLC)集成在一起,該控制器通過控制反應堆的溫度來提高運行穩定性。該系統配有三維檢測單元,有助於協調樣品的確切位置和方向。這一尖端功能有助於減少位置誤差,並允許精確觀察樣品蝕刻和灰燼的表面。最後,該機器與計算機輔助設計(CAD)軟件包集成在一起,可幫助生成蝕刻和灰化過程的詳細3D模型。還可以校準CAD軟件,以便在實際制造開始之前模擬過程。總體而言,Plasmalab 90是一種可靠和先進的蝕刻和粉刷工具,有助於為各種應用創建高度精確和均勻的微制造組件。它的設計具有廣泛的功能,使其能夠按照精確的規格有效地蝕刻、清潔和沈積金屬層。這些特性使得OXFORD Plasmalab 90成為精密制造微電子元件的理想資產。
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