二手 OXFORD Plasmalab DP-80 #293651901 待售
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OXFORD Plasmalab DP 80是一款用於生產高品質、超薄膜的蝕刻器/asher。它是當今最先進的等離子體蝕刻和沈積系統之一，用於廣泛的應用，包括半導體微電子加工、納米技術、數據存儲介質以及其他需要精密層的應用。Plasmalab DP 80的核心是一個由計算機控制的真空晶片傳輸系統、離子源和多氣體入口組成的加工室。它設計用於低壓（<50 mTorr）或高壓（<300 mTorr）真空。整個單元還配備了慣性溫度穩定等離子體（ITSP）源，提供了獨立於晶圓運動的高度均勻的沈積/蝕刻過程。OXFORD Plasmalab DP 80還配有完全可編程的氣體系統，允許用戶定制自己的工藝解決方案，優化自己的薄膜性能。此外，Plasmalab DP 80包括一個特別開發的等離子體源，為離子束侵蝕和離子植入等應用提供正負離子。DP 80能夠根據低至25微米的分辨率繪制離散特征圖樣,並且設計為與任何PECVD、濺射和蒸發過程兼容。該機還設計為與介電、聚矽、銅、鈷、銀、鋁、鈦蝕刻等多種不同的沈積蝕刻工藝兼容。OXFORD Plasmalab DP 80可以整合到許多實驗室和設施中，其堅固的構造和高端部件使其成為大眾制造工藝的熱門選擇。例如，其堅固的構造和高端部件使其能夠運行至高達98 Torr的壓力，並具有自動腔室清洗和晶圓旋轉的特點，可重復性率優於1微米。總體而言,Plasmalab DP 80是一種通用、功能強大的等離子體化學蝕刻沈積系統.這對於需要精密薄膜層的各個行業來說都是一個絕佳的選擇,其可定制的特性和操作使其成為量產運行的理想選擇。憑借其先進的操作和可擴展性,這對於需要工業級蝕刻器/asher的任何人來說都是一個絕佳的選擇。
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