二手 OXFORD Plasmalab TTL RIE80 #9249677 待售

OXFORD Plasmalab TTL RIE80是一種高效、先進的蝕刻/灰化設備,專為半導體、元/催化、納米加工和其他先進技術應用而設計。該系統采用了先進的基於反應性離子蝕刻技術的等離子體蝕刻工藝，以其卓越的特征控制和均勻蝕刻而著稱。該裝置設計為提供具有快速循環時間的均勻蝕刻，並具有提供穩定的源操作和優越的顆粒固定性的鈦鎖定源，以盡量減少蝕刻材料的顆粒汙染。Plasmalab TTL RIE80具有廣泛的用戶定義過程參數,使用戶能夠根據自己的特定要求精確定制蝕刻過程。該機能夠生產分辨率小於2 nm的超細特征尺寸,同時保持5%以上的蝕刻均勻性。該工具利用強大的直流電偏差來控制在等離子體中產生的反應性物質，以及對蝕刻材料提供優越的工藝控制。這允許用戶根據自己的特定要求定制蝕刻過程,同時保持高特征分辨率和一致性。此外,OXFORD Plasmalab TTL RIE80具有自動端點檢測功能,允許用戶針對特定材料厚度實現理想的蝕刻性能。該資產還提供行業領先的工藝參數精確控制,如蝕刻時間、溫度、壓力和氣體混合物。該模型與用戶友好的軟件完全集成,用戶可以快速輕松地配置所需的蝕刻過程。總之,Plasmalab TTL RIE80提供具有可靠、可控的工藝參數的高級蝕刻功能,使用戶能夠實現高級技術應用程序所需的精確控制和特征定義。該設備適用於半導體和元/催化納米加工應用，為用戶提供了根據自己的具體要求量身定制蝕刻工藝的能力。