二手 OXFORD Plasmalab uEtch #293604265 待售

OXFORD Plasmalab uEtch是為生產納米電子和等離子體結構而設計的先進蝕刻設備。它用途廣泛，適合研發和工業應用。該蝕刻器基於多頭設計，允許對各種參數進行實驗，以優化模式形成和屈服。該系統支持定向和非定向蝕刻,實現復雜的蝕刻模式以及批量過度蝕刻蝕刻。該單元的核心是一個電感耦合射頻（RF）發電機，能夠提供正負離子密度。這樣可以精確控制蝕刻過程,從而使用戶能夠調整蝕刻速率並選擇所需的配置文件。為確保過程的一致性和穩定性，發電機配備了反饋和互鎖監控。Plasmalab uEtch機帶有人性化的觸摸屏界面，允許用戶控制包括蝕刻速率、加速電壓和電極分離在內的各種參數。此外，該工具支持各種控制模式，如開環或閉環，確保蝕刻過程能夠被精確監控和調整以獲得最佳效果。資產還有一個孤立的等離子體室，確保蝕刻過程產生的任何帶電粒子不會幹擾其他模型參數。作為一項額外的安全措施，設備在用戶無法控制的情況下配備了緊急停止按鈕。該系統專為大面積生產而設計，便於與其他設備集成。它非常可靠,提供高吞吐量和經濟高效的生產。使用OXFORD Plasmalab uEtch單元的主要優點之一是其先進的安全特性。該蝕刻器配有滅火器、等離子體密閉屏和一系列過濾器，以防止汙染。這樣可以確保機器安全使用,並將任何潛在風險降至最低。Plasmalab uEtch是一種功能強大、用途廣泛、可靠的蝕刻工具，非常適合生產高質量的納米電子和等離子體結構。其高吞吐量和經濟高效的性質使其成為研究人員、開發人員和企業的可行選擇。