二手 PLASMA ETCH BT-1 #9100075 待售

等離子體蝕刻BT-1是一種利用高能等離子體蝕刻和灰分有機和無機材料的蝕刻和灰化器。其操作基於高頻感應設計，向基板提供均勻可控的等離子體。它是介電蝕刻、金屬化和微制造等工藝的理想選擇。PLASMA ETCH BT1利用天線陣列產生高達13.56 MHz的高頻等離子體，以蝕刻和粉刷Si、SiO2、Si3N4、金屬和聚酰亞胺等多種材料。這樣可以精確和可重復地蝕刻薄層材料，如二氧化矽，用於直接制造設備。BT-1的蝕刻室的舒適溫度範圍為0-60°C（5-90°C搭配可選的高溫室）。借助渦輪泵和過濾系統，腔室能夠實現0.1-500 mTorr的寬工作壓力範圍，而無需外部疏散。這允許廣泛的蝕刻過程，如蝕刻和帶狀，金屬升空，和深溝蝕刻。BT1設計易於使用，其嵌入式工藝控制器可確保定制等離子體蝕刻和灰化的各種工藝參數。嵌入式工藝控制器通過根據工藝參數識別理想蝕刻參數，特別是蝕刻速度和均勻性，有助於優化可重復性。其微處理器控制、直接耦合的RF驅動器也有助於在處理周期中實現RF功率的快速斜坡上升和斜坡下降。這有助於提高蝕刻吞吐量並減少樣品充電的影響。PLASMA ETCH BT-1還配有各種可選配件，如射頻（RF）偏置頭，有助於減少材料對困難蝕刻材料的粘附。等離子體蝕刻BT1設計用於高容量和高精度的制造過程。它被用於生產微機電系統和制造其它復雜的微器件。對於那些希望獲得易於使用的蝕刻器和具有廣泛工藝參數和強大功能的asher的用戶來說,這是一個絕佳的選擇。