二手 PLASMA ETCH BT-2 #9083265 待售

PLASMA ETCH BT-2是由PLASMA ETCH, Inc.創建的一個高精度蝕刻平臺,允許在多種材料和基材上進行幹蝕刻。此工作站采用了一個強大的工程平臺,將精確的可重復性與控制和靈活性相結合。利用高溫和高速等離子體工藝相結合，BT-2可以快速準確地蝕刻和粉刷各種材料。PLASMA ETCH BT-2的基礎技術是基於高密度等離子體（HDP）蝕刻工藝。這個過程使用不對稱雙射頻（RF）電源向等離子體傳遞高度可重復的功率。然後通過施加在蝕刻基板上的垂直射頻偏差來穩定該過程，從而在材料中形成高長寬比結構。該系統還提供了源和基板之間的動態離子能量控制，使精確的蝕刻面罩定義與通過功率調節提高蝕刻均勻性的同時實現。BT-2整體設計模塊化、緊湊；其真空外殼由陽極氧化鋁外殼構成，帶有不銹鋼和鋁制下腔以及密封氣室。它被設計成能夠融入任何工業規模的實驗室。該腔室是可調的，同時允許使用CVD和單腔蝕刻工藝，使其適用於各種各樣的應用。此外，該系統還裝有內置的流程互鎖系統，以確保流程的可重復性、安全性和質量。PLASMA ETCH BT-2對RF功率的使用給了它幾個獨特的好處，例如增加蝕刻速率和選擇性，以及提高材料利用率。此外,與傳統工藝相比,它的高熱隔離確保了非常低的功耗,使其成為低成本開發項目的一個有吸引力的選擇。BT-2令人難以置信的精確度還確保了更高的制造精確度,並且可以在陶瓷和薄膜封裝上產生精確到50 nm寬的線條。等離子體蝕刻BT-2蝕刻器可以量身定制，以滿足任何實驗室或用戶的具體需求。它為尋求安裝和操作幫助的人員提供全面的硬件支持、詳細的文檔和客戶服務。BT-2具有強大、高效和可靠的設計,是任何蝕刻和灰化應用的絕佳解決方案。