二手 PLASMA ETCH MK-II-1 #9187172 待售

ID: 9187172
優質的: 2005
Plasma cleaner / Etcher Electrode configuration, Horizontal planar: 8 Levels Process temperature control: 125°F to 300°F ±5°F R.F Generator & automatching network: 2000 Watts@13.56 MHz Mass flow controller (2 Channels): 0-2000 CC/min Vacuum gauge, capacitance monometer: 0-10 Torr Touchscreen control system included Vacuum pump, multiple stage, oxygen service: 355 / 30 CFM Chilled water recirculate, closed loop : 20°C ±0.5°C 2005 vintage.
PLASMA ETCH MK-II-1是一種用於半導體器件制造中所用基板的精密蝕刻、退火或表面處理的蝕刻/灰化器。此蝕刻器能夠在多種材料中以高分辨率創建多種模式。它是多種材料去除技術的通用工具。MK-II-1的核心是一個強大的感應耦合射頻(RF)源,其可調功率高達5000瓦。這個射頻源耦合到一個精細的腔室,其主要部分是一對上下電極和一個具有可調架子的甲板,構成了工藝區域。工藝區域設有絕緣氣體入口、排氣出口、自動快門和基材支撐組件。除了感應耦合射頻源外,PLASMA ETCH MK-II-1還具有匹配網絡,有助於在運行過程中實現一致的輸出功率。它還包括一個可變氣流設備,以確保反應氣體快速高效地輸送到工藝區域。該系統由用於輸送幹燥氣體的高壓側和用於輸送液體的低壓側組成。MK-II-1還包括一些用戶友好的功能。其GUI界面易學易用,可編程,有多種蝕刻、退火、表面處理的配方。它還提供了一個用於蝕刻的三維單元,能夠在非平面表面上精確蝕刻圖案。PLASMA ETCH MK-II-1具有多種安全功能,例如一個門互鎖機,它可以防止在RF電源處於活動狀態時打開門,以及一個接地室來容納操作過程中積聚的靜電電荷。它還包括一個警報工具和一個溫度保護資產,用於監測和控制射頻室內的溫度。最後,MK-II-1是一個非常耐用的模型。其部件由不銹鋼制成,確保它們能夠承受蝕刻過程的惡劣條件。設備使用壽命長,幾乎不需要維護。由於其卓越的性能和可靠性,PLASMA ETCH MK-II-1許多蝕刻和表面處理應用的理想選擇。
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