二手 PLASMA ETCH MK-II #293610079 待售

PLASMA ETCH MK-II是一款最先進的asher/etcher，設計用於在亞微米級對各種薄膜材料進行高精度蝕刻和灰化。該機配備了強大的數字微米控制射射器（DMCE），用於離子參數的精確調整，使蝕刻結果具有高精度和重復性。DMCE還包括一個自動感測功能,允許用戶自動調整蝕刻/灰化過程的氣壓。PLASMA ETCH MKII的等離子體蝕刻/灰化室設計有一個大籃子，可以容納直徑達19.69英寸（500毫米）的所有尺寸的基板。該腔室包括兩個獨立氣源的氣體系統，如氫氣和氙氣，可一起用於蝕刻和灰化。操作員可以從用戶可編程的工藝蝕刻參數中選擇每個腔室和氣源的功率、脈沖頻率和rpm等參數。Asher/etcher還配備了直列式石英晶體監測儀，用於測量蝕刻過程中產生的等離子體。MK-II提供了對工藝室和基板的自動熱控制，因此每一個都可以保持在恒溫。它還包括一個射頻屏蔽盒，以減少射頻幹擾和減少等離子體汙染。Asher/etcher配備了一個真空系統，其射程為0.1-2000 torr，能夠達到高達20 torr/秒的真空速率。此外，自動排氣系統能夠快速方便地清理副產品。MKII是薄膜材料微加工、蝕刻和粉刷的理想工具。它為高精度蝕刻提供了極好的重復性，可以處理任何類型的基板，從單面到雙面。該機具有廣泛的用戶可編程過程參數和一觸式液晶界面，便於設置和操作。串聯的石英晶體監測儀可以精確調整離子參數，從而獲得可靠的結果，方便的自動排氣系統確保了最短的清理時間。堅固的設計和先進的功能確保了出色的蝕刻和灰化性能,使此蝕刻器成為尋求可靠和可重復結果的用戶的絕佳選擇。