二手 PLASMA ETCH PE-200 #293778285 待售

等離子體蝕刻PE-200是一種能夠為各種材料提供無懈可擊的蝕刻和灰化應用的桌面源。這種精確的儀器利用電和惰性氣體放電的組合，以最小的熱量暴露和對易碎基板沒有熱沖擊的方式提供一致的材料去除。PE-200的核心是三個獨立的互鎖系統--蝕刻模塊、泵模組和供氣模塊。蝕刻模塊由真空釋放閥、磁控管源、與各種操作配置相匹配的定制電感以及用於均勻等離子體生成的低壓等離子體腔組成。定制電感使磁控管能夠有效地向基板傳遞能量，並確保一致的蝕刻速率。泵艙有一個渦輪分子泵，帶有用於氣體、氣閘和不同真空計的儲罐。這有助於在更換或添加氣體時保持系統的完整性。此外，供氣模塊的特點是關閉閥門，收集器和載氣供應，以及中性壓力調節器。PLASMA ETCH PE-200的其他特性包括高蝕刻速率、快速泵降速率和接近室溫的操作。因此，該系統提供了低成本的每晶片蝕刻精度和可重復性。這樣就可以用於幹蝕刻、灰化、化學氣相沈積（CVD）等多種材料上的應用，如矽、氮化矽、鎢、鋁和其他金屬。此外，PE-200還有一個集成了緊急關閉電路的安全設計、一個自動壓力控制系統和自性能測試。這有助於最大限度地減少事故、故障和停機時間。它還具有電影播放功能,可用於通過播放過程中保存的電影來檢查操作歷史記錄。PLASMA ETCH PE-200也符合SEMI S2標準，為用戶提供了一個安全、合規的操作環境。總體而言,PE-200是一個高級桌面源,它提供精確的蝕刻和灰化應用程序,具有極好的可重復性和可靠性。它將精密蝕刻和灰化技術與快速、安全的操作相結合,使此工具成為任何研發實驗室或制造設施的寶貴補充。