二手 PLASMATECH RIE-80 #9249711 待售

PLASMATECH RIE-80
ID: 9249711
Reactive Ion Etcher (RIE) P/N: HFC-E-202.
PLASMATECH RIE-80 蝕刻器/asher是一種等離子體增強型幹蝕刻器,設計用於從金屬層去除到介電鈍化和沈積等多種應用。該設備可用於半導體器件、光電、毛細管蝕刻、介電填料等多種基材。RIE-80使用射頻電源和間接等離子體源來創造高能等離子體環境,這有助於改善基板的蝕刻特性,同時減少氣體消耗和加工時間。該系統由一個鎖載室、一個真空室和一個加工室組成。鎖載室用作緩沖區域,以確保清潔,在進入加工室前沒有灰塵基板。真空室用於維持低壓環境,抵抗隨機粒子進入等離子體。處理室包含整個蝕刻過程,並配有6軸機械手、電源和RF等離子體源。該裝置配有高達2 kW的射頻電源和連接到波導的W型雙燈絲電感耦合等離子體源。接地電位印刷電路板確保了與射頻源的完美電氣連接。PLASMATECH RIE-80 蝕刻器/asher提供對蝕刻過程的精確控制。電源級別和定時是手動設置的,並且機器能夠為每個基板保持一個設置過程,以最大程度地減少手動幹預。用戶還可以實時監控過程,包括壓力、溫度和過程時間。該工具具有出色的分辨率,典型分辨率為0.1µm,適合高精度工作。總體而言,RIE-80是一種高效可靠的蝕刻/灰分資產,適用於許多應用。它提供了對蝕刻過程的出色控制以及實時監控過程的能力。它的高分辨率使得它適合高精度的工作,其氣體消耗比其他系統低。該型號易於維護,確保了較長的使用壽命。
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