二手 PLASMATHERM 770 ICP #9123970 待售

PLASMATHERM 770 ICP是一款先進的幹蝕刻蝕刻/asher設備，最初設計用於半導體行業的開發和工藝集成。它經過專門設計，以應對高長寬比蝕刻的挑戰，使其適合最困難的過程和應用。該系統利用感應耦合等離子體（ICP）源，產生具有低電離種類的高密度等離子體，以獲得比替代蝕刻系統更高的精度和均勻性。ICP在10.2MHz運行,功率範圍高達400瓦,可精確控制功率和蝕刻深度。ICP還在450至950°C的溫度下運行，壓力範圍為0-1000 mTorr，以增強靈活性和準確性。該裝置還具有一個能量中性帶電粒子（ENCP）源，其設計目的是減少對晶圓的長期損害。該光源消除了電離粒子，產生了更均勻的蝕刻過程，減少了對微觀特征的損害，提高了整體精度。與其他蝕刻技術相比，ENCP還能夠提供更高的蝕刻速率和更低的表面粗糙度。該機還具有三個運動軸和光機自動定心，以提高生產率和精度。使用5.8英寸的加工室,770 ICP可以安裝任何尺寸的晶圓,並執行直徑最大8.0英寸的蝕刻工藝。陶瓷襯裏的加工室還具有統一的溫度設計，創造了一個穩定的蝕刻環境。對於高級過程控制,該工具利用高級自動化功能,包括熱控制、工藝配方管理器和半自動晶圓傳輸。還提供了一種全自動機器人氣體資產，以減少操作員的幹預和提高生產率，以及一種可追溯的氣體輸送模型，以更好地控制氣體混合物的成分。總體而言，PLASMATHERM 770 ICP 蝕刻器/asher設備是一種功能強大且可靠的工具，專為半導體行業中最困難的工藝和應用而設計。具有高密度等離子體、均勻配電、自動化氣體系統等特點，具有優異的蝕刻精度和重復性。