二手 PLASMATHERM 770 ICP #9124019 待售

ID: 9124019
優質的: 2001
Ion coupled plasma etcher Load lock shuttle lock transfer Single chamber ICP Watlow heater Power supply: RFPP – RF5S & 20M Electrode: 8.31” Electrostatic chuck: 6" (6) MKS MFCs-(O2, N2, Cl2, BCl3,Ar,spare) VAT PM-5 He backside cooling Neslab 75W Turbo pump Leybold D16B Leybold D40BCS Plasmatherm windows OS 2001 vintage.
PLASMATHERM 770 ICP是一款為高速和高精度加工而設計的蝕刻/asher設備。它是一個緊湊的系統,非常適合多種應用,包括表面蝕刻、介電層各向異性蝕刻、電路板層背面蝕刻。該單元特別適合快速成型,因為它需要極少的設置時間,並且可以很容易地進行縮放以容納大量的材料。770 ICP具有感應耦合等離子體(ICP)源,產生高密度等離子體,這對於高精度蝕刻應用至關重要。等離子體在真空10級潔凈室中生成,並被限制在蝕刻室中,以優化均勻性。該機還具有兩個獨立的氣體分配系統,以增強過程的多功能性和控制。使用用戶友好的圖形界面控制蝕刻過程,用戶可以輕松、精確地設置蝕刻條件。該工具具有可從側面進入的7英寸蝕刻室,並具有可旋轉200°/秒的旋轉頭。這使得它可以蝕刻電路板的兩側,並在整個電路板上創造最佳的均勻性。旋轉頭在蝕刻過程中溫度穩定,以確保精度和精度。該資產能夠蝕刻各種厚度的材料,並且可以以高達30mm/min的速度進行蝕刻。PLASMATHERM 770 ICP還具有集成的霧氣過濾模型,該模型捕獲蝕刻過程殘留物以提高清潔度。該設備還包括一個自清潔功能,自動清洗噴嘴等部件,在長時間運行中保持一致的性能。該系統為最大的安全和能源效率而設計,並結合了幾種安全裝置來保護用戶和環境。該單元還設有多語言用戶界面,方便不同國籍的用戶使用。770 ICP是一款多用途蝕刻和灰化機,它將精度、功率和速度結合在一起,可用於多種應用。該工具是蝕刻和灰化電路板、半導體和其他材料的完美解決方案。
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