二手 PLASMATHERM 770 #9124177 待售

ID: 9124177
晶圓大小: 2-8"
優質的: 1995
Reactive Ion etcher (RIE), 2"-8" Parallel plate type, 11" Upper electrode and lower electrode, 9" Multi-wafer size design up to 8" wafers Graphite feature plate Adjustable upper electrode height SEIKO / SEIKI STP-H300C Turbo pump SEIKO / SEIKI STP Controller (9) MFC's ADVANCED ENERGY RFPP 5S With AM5 matching network 290 Ion gauge controller MKS 286 Controller Disconnect box Plasmathem PC Power supply: 208 V, 60 A, 60 Hz, 3-Phase 1995 vintage.
PLASMATHERM 770是世界各地高科技行業用於各種材料精密蝕刻和灰化的蝕刻/灰化器。該機利用微波能量和高頻等離子體相結合,有效、準確地蝕刻和粉碎任何材料。770典型加工厚度從1「到9」不等的基板。采用特殊的專利腔室設計,優化工藝,獲得最佳蝕刻和灰化效果。該工藝用途廣泛,因為它可以處理任何厚度、大小、形狀和材料的塗層和非塗層基板。模型還包含兩個獨立的蓋子,以確保沒有外部汙染物進入機器的內室。一旦基板被裝入機器,加工室就被密封並抽出以產生真空。這樣做是為了清除室內的任何潛在汙染物或氧氣濃度。然後用射頻發生器激發稀有氣體混合物,產生微波場產生等離子體。PLASMATHERM 770的腔室壓力可根據用戶要求和所需的蝕刻速率進行調節。它還具有智能溫度控制系統,可確保無論基材類型或蝕刻工藝的變化如何,都能保持最佳工藝溫度。為了增加安全性,該裝置還配備了內置的滅火系統,並具有自動冷卻參數。蝕刻器的等離子體密度也可調節,進一步提升其蝕刻速率和循環時間。770除了具有蝕刻和灰化功能外,還提供了多種其他功能。它具有直觀的用戶界面和觸摸屏顯示,以協助操作員和用戶在室內裝卸基板。具有2048MB容量的EEPROM內存芯片允許用戶為以後的蝕刻過程存儲以前的程序設置。PLASMATHERM 770設計為簡單但高效的蝕刻器/asher。它是高技術行業對各種材料進行快速、精確蝕刻和粉刷的理想選擇。憑借其直觀的設計和易於使用的特點,770是那些尋找優越蝕刻效果的人的理想選擇。
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