二手 PLASMATHERM 790 RIE #293811826 待售

ID: 293811826
晶圓大小: 8"
Reactive Ion Etcher (RIE), 8" Leybold D40BCS Neslab HX75 Chiller Gases Used: Ar, SF6, N2, O2.
PLASMATHERM 790 RIE(Reactive Ion Etching)是由PLASMATHERM開發的最先進的全功能蝕刻設備。它能夠對介電、有機、半導體和MEMS結構等先進材料進行各向同性和各向異性蝕刻。790 RIE具有可擴展的模塊化平臺,可高效配置流程並快速適應企業需求。其模塊化的多室設計進一步增強了過程的靈活性,這種設計能夠為不同的任務添加腔室。此外,大腔室尺寸確保了均勻的蝕刻加工,而其廣泛的配方選擇則允許無論幾何形狀或材料都能進行精確的蝕刻控制。PLASMATHERM 790 RIE采用高功率射頻發電機和真空泵,創造低壓環境和陰極以維持蝕刻速率。這樣可以最佳地設置工藝參數,從而以最高精度實現高質量的蝕刻。此外,強大的腔室冷卻系統可提供出色的熱控制,隨時間推移實現高可重復性和卓越的可靠性。設備的高級軟件確保了從頭到尾的重復、可靠和可控的蝕刻。它還包含許多安全和保護功能,以防止機器損壞或錯誤。此外,其獨特的Analyzer模式通過自動分析每個運行並顯示相關參數,更深入地了解蝕刻過程。該工具還配有各種附件以增加功能,例如帶有旁路線路的可選冷卻器、遠程診斷診斷和修復、優化的負載鎖以及自動托盤傳輸資產。此外,其可選的集成視覺模型可實現打印設備的精確對齊和配準,從而可以對新設計進行無縫調整並加快處理速度。總體而言,790 RIE是一款高性能、可靠的蝕刻設備,可提供卓越的精度、可重復性和過程穩定性。這使企業能夠提前完成嚴格的最後期限,並輕松實現最高的質量水平。
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