二手 PLASMATHERM 790 RIE #9055603 待售

PLASMATHERM 790 RIE或反應性離子蝕刻設備是一種最先進的晶體結構和薄膜蝕刻系統，旨在滿足當今先進半導體加工應用的最高要求。它旨在方便用戶使用，並提供高質量的流程再現性。790 RIE使用氣體輔助蝕刻工藝，將多個蝕刻參數組合在一個單元中。這使用戶可以完全控制蝕刻過程。用戶可以輕松設置和監控所有參數,包括RF等離子體功率、壓力、氣體控制和溫度。該機具有無泄漏結構的真空室，保證了全厭氧環境。這使得蝕刻過程具有高度的可重復性。此外,用戶可以在任何時間點調整和控制流程的所有組件。PLASMATHERM 790 RIE能夠容納直徑最大為4英寸的晶片，並使用從金屬和合金到陶瓷、石英和有機物質的材料。它還能夠處理薄膜、復雜結構和高長寬比結構，如孔和階梯狀晶體。該工具配備了最先進的電子設備、計算機/用戶界面以及集成的安全程序。這些技術創新允許在蝕刻過程中精確控制參數。790 RIE提供可靠、高質量的結果。它具有獨特的工藝技術，結合了高選擇性和高精度，實現了較高的整體工藝質量。此外，其廣泛的參數為各種材料和基材提供了良好的蝕刻條件，其用戶友好的設計確保了對工藝的完美控制。這些特性使其成為許多生產先進半導體產品的行業的一流工具。