二手 PLASMATHERM 790 Series MF #9382210 待售
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ID: 9382210
晶圓大小: 11"
優質的: 1994
Reactive Ion Etcher (RIE), 11"
Power supply: 208 V, 60 Hz, 3 Phase
1994 vintage.
PLASMATHERM 790系列MF是來自AIXTRON的精確且用途廣泛的蝕刻器/asher。這種蝕刻器設計用來蝕刻和粉刷芯片、基材、晶圓和其他薄層材料。它具有集成的精密控制設備,可獲得準確的結果.790系MF極為精確,內層結構只有11微米厚。這樣可以確保即使在極薄的基板上也能進行精確的蝕刻和灰化。該蝕刻器的可重復性和特征尺寸精度是無與倫比的,其分辨率可達0.01 μ m至0.05 μ m。PLASMATHERM 790系列MF是圍繞等離子體增強型化學氣相沈積(PECVD)工藝設計的。這是一個高度可靠和靈活的過程,允許用戶控制蝕刻層的蝕刻速率、選擇性和均勻性。該蝕刻器設計用於精確蝕刻和灰化電荷耦合器件(CCD)、互補金屬氧化物半導體(CMOS)晶體管、電容器、電感、集成電路板以及許多更薄的材料層。790系列MF設計成本低,維護要求最低。蝕刻器的運行壽命延長,兩個作業之間的停機時間為零。這確保了最大的生產力和效率。該蝕刻器還易於安裝和使用,內置了低振動真空泵,用於高效的過程裝卸。此蝕刻器可輕松集成到任何生產線和系統中。PLASMATHERM 790系列MF具有先進的惰性氣體輸送裝置,以確保高質量、高生產力的過程。該蝕刻器具有完整的工藝靈活性和可靠性,最多可有4個獨立的工藝氣源和最多3個獨立控制的氣體壓力。790系列MF采用基於三通和四通電磁閥的送氣機,能夠提供最高端的蝕刻和灰化效果。此外,該蝕刻器還提供了先進的射頻電源,用於精確控制電源管理和過程均勻性。此外,高級運行時數據監視工具允許蝕刻器監視資產性能並深入了解過程動態。這有助於優化蝕刻和灰化結果,以獲得一致的高質量結果。
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