二手 PLASMATHERM 790 Series #9308031 待售

ID: 9308031
優質的: 1997
PECVD System / Reactive Ion Etcher (RIE) 1997 vintage.
PLASMATHERM 790系列Etcher/Asher是一款用途廣泛的高級沈積和蝕刻設備,用於薄膜蝕刻和電遷移等高級應用。它提供了較高的等離子體密度和靈活性,以優化氧化物蝕刻,通過蝕刻,和淺溝隔離(STI)。它利用平行板等離子體構型,可以很容易地編程,以實現對工藝參數的精確控制。該系統的腔室由不銹鋼制成,並經過加熱,以確保均勻的熱分布和過程穩定性。腔室前側裝有用於樣品裝卸的負載鎖,兩個用於基板支撐的膠帶基座,以及一個具有可調葉片的基板固定機構,為基板提供均勻的等離子體分布。790 Series Etcher/Asher配備了一對觸摸屏用戶界面控件和直觀的圖形用戶界面,可以方便地操作設備。利用冗余質量流控制器,準確控制氣流,提供無與倫比的可重復性。用戶可以自定義蝕刻過程參數以獲得所需的結果。它還具有業界領先的高能、高壓射頻(RF)電源,可產生高達130瓦的功率,從而使機器能夠安全高效地使用。加固的冷卻器工具可確保在蝕刻過程中準確控制過程溫度,而先進的真空資產可確保整個過程中的超清潔環境。PLASMATHERM 790系列Etcher/Asher能夠在高溫和高壓下運行,非常適合對矽和石英等細膩材料進行蝕刻和退火。該模型還為灰燼和沈積工藝提供了可選的擴展深度功能。此外,該設備還能夠支撐15 「x 16」英寸的基板,這使得該系統適用於各種應用。790 Series Etcher/Asher是研究、制造和工程應用的理想選擇,包括制造透矽vias (TSV)和3D集成電路、TFT以及薄膜蝕刻和沈積。該單元也非常適合半導體、MEMS和光學行業使用,使其成為市場上最尖端的蝕刻和沈積系統之一。
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