二手 PLASMATHERM Dual chamber 730/720 RIE #9123973 待售

PLASMATHERM Dual Chamber 730/720 RIE是一款用途廣泛、功能強大的蝕刻和灰化工具。它能夠在復雜和詳細的曲面上創建各種形狀和深度的復雜特征。專為加工各種材料而設計，非常適合微電子、微電子和光學元件制造。這臺機器使用反應性離子蝕刻（RIE）和射頻等離子體的組合來蝕刻和/或不同形狀和大小的灰燼材料。它提供了對加工時間和壓力的精確控制，使零件的高吞吐量具有優異的效果。它由雙室設備中的兩個工序組成。首先，利用射頻等離子體腔在晶片表面上產生均勻的溫度分布和均勻的蝕刻速率。其次，利用RIE室聚合和濃縮表面的離子。這種雙腔室系統可確保每項任務的最大性能和均勻性。730/720 RIE由真空室、射頻發電機、工藝氣體入口和受控壓力單元組成。該腔室設計用於將晶片保持在8英寸以下,並具有靜電卡盤以精確地將晶片保持在適當位置。深層蝕刻過程發生在室內，消除了環境中的物質汙染。射頻發電機可提供卓越的蝕刻控制和精確的蝕刻時間.發電機還允許用戶調整產生的射頻功率，以便優化蝕刻速率，創建錯綜復雜的詳細結構。此外，工藝氣體機允許混合不同的氣體，為蝕刻不同類型的材料提供了更多種類。雙室730/720 RIE提供了無與倫比的能力和精確度,提供了最高質量的蝕刻和灰化效果。它結合了RF和RIE技術的雙室設計，是復雜應用和精確蝕刻任務的完美工具。