二手 PLASMATHERM Gen 4 Mask IV #9304311 待售
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ID: 9304311
Plasma etchers
(3) Chambers
Mask size: 152mm
SMIF pod loader
Buffer station
Load Module (LM)
Transfer Module (TM)
Types of pods: RSP types - ENTEGRIS PEEK pod, GUDENG PEEK pod and ENTEGRIS ABS pod
Buffer station: Mask staging with positive air flow mini environment
Operating system: Windows NT
(3) Process modules (PM): PM1, PM2, PM3
Module: Gen4
Process: Quartz (PM1), MoSi (PM2), Chromium (PM3)
SEIKO SEIKI Turbo pump
Turbo size: 1300 L/sec
PM1:
Channel / DET41 / MFC sccm
CH-01 / SF6 / 5
CH-02 / He / 100
CH-03 / O2 / 200
CH-04 / N2 / 150
CH-05 / Ar / 200
CH-06 / CF4 / 100
CH-07 / CHF3 / 200
CH-08 / H2 / 100
PM2:
Channel / DET42 / MFC sccm
CH-01 / SF6 / 100
CH-02 / He / 100
CH-03 / O2 / 20
CH-04 / N2 / 150
CH-05 / Ar / 100
CH-06 / CF4 / 100
CH-07 / N2 / 100
CH-08 / N2 / 100
PM3:
Channel / DET43 / MFC sccm
CH-01 / CL2-toxic / 200
CH-02 / He / 100
CH-03 / O2 / 50
CH-04 / N2 / 150
CH-05 / Ar / 25
CH-06 / N2 / 100
CH-07 / N2 / 100
CH-08 / N2 / 100.
PLASMATHERM Gen 4 Mask IV是一種最先進的蝕刻器/asher，設計用於在各種材料和基材上實現精確的蝕刻和灰化結果。這臺機器非常適合生產高質量的蝕刻和灰化部件，提供卓越的精度和可重復性。Gen 4 Mask IV具有液晶觸摸屏顯示屏，允許用戶控制氣體類型、壓力和時間等各種工藝參數。此外，機器還有自動化的控制系統，可以根據每個項目的具體需要輕松編程。PLASMATHERM Gen 4 Mask IV配備了現代化的文丘裏式氣體設備，確保了達到一致結果所需的氣體流量和溫度的均勻性和精確度。此外，該機配備了先進的等離子體源系統，提供優越的蝕刻和灰化速度，以減少周轉時間。此外，Gen 4 Mask IV旨在最大限度地減少對基板的等離子體損傷，從而實現最高的工藝精度和高產率。PLASMATHERM Gen 4 Mask IV還包括一個獨特的多閥熱調節系統，允許用戶從多個預定義的溫度剖面中進行選擇。該單元的設計溫度範圍為0-200 °C，為用戶提供了為其蝕刻和灰化要求創造完美條件的靈活性。此外，Gen 4 Mask IV極易安裝和使用。其直觀的用戶界面確保了高效的操作,使用戶能夠快速、輕松地訪問將項目啟動所需的所有信息。此外，該機還配備了降低工作溫度的先進空氣冷卻機，以提高產量和提高工藝穩定性。PLASMATHERM Gen 4 Mask IV是一種理想的蝕刻器和灰化器,可在各種材料和基材上實現精確的蝕刻和灰化效果。憑借其先進的功能和用戶友好的設計，這臺機器為用戶提供了創建符合其確切規格的高質量組件所需的靈活性和準確性。
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