二手 PLASMATHERM PT530 PECVD #9123992 待售

PLASMATHERM PT530 PECVD是一種利用射頻（RF）技術沈積薄膜並進行蝕刻的等離子體蝕刻器/asher。可用於沈積和蝕刻多種材料，如金屬、氧化物、氮化物和聚合物。該機可用於醫療、……等多種行業電子、光電、半導體和太陽能。PT530 PECVD允許快速和精確的等離子體蝕刻過程，具有高均勻性。該設備能夠產生低壓（0.3-0.6 torr）、低功率（50 W-500 W）、廣泛的等離子體氣體種類以及跨基板的高均勻性。等離子體壽命長，功率低，腔室清洗能力優化，都是利用高效磁控管技術實現的。PLASMATHERM PT530 PECVD具有高壓力平面磁控管、感應耦合等離子體、平行板等多種蝕刻/沈積源，以及毫不費力的晶圓能力。此外，該系統還具有較高的吞吐量，具有優化的源-晶圓距離、自動氣體交換和可變氣流管理。PT530 PECVD實現了廣泛的標準沈積和蝕刻工藝：金屬、氧化物和氮化物沈積的低溫CVD、高溫CVD工藝、氧化物蝕刻、幹蝕刻和反應性離子蝕刻（RIE）。該裝置用途廣泛，具有執行RIE、濺射、金屬化和各向異性蝕刻工藝的能力。該機器還能夠沈積和蝕刻聚合物，以及半導體沈積和氧化物/氮化物層的選擇性蝕刻。該工具還提供高級流程控制功能,並具有一系列流程參數設置,允許用戶微調處理以滿足其確切要求。還包括高級工藝診斷工具,具有環境壓力診斷端口和實時成像功能。這使得用戶更容易識別和解決過程中出現的任何問題。總之，PLASMATHERM PT530 PECVD是一種強大的等離子體蝕刻器/灰化器，具有廣泛的材料沈積和蝕刻能力，能夠實現精確、均勻的蝕刻結果。它的多個源功能使用戶能夠執行廣泛的流程,而其高級流程控制和診斷工具使資產的維護和故障排除變得更加容易。