二手 PLASMATHERM SLR 730 #293663368 待售

ID: 293663368
PECVD System Controller Single chamber with loadlock Gas configuration: Silicon oxide Silicon nitride Silane Nitrous oxide Ammonia Sulfur hexafluoride Operating system: Windows 95.
PLASMATHERM SLR 730是設計用於半導體工業的等離子體蝕刻和灰度裝置。它具有先進的設計和模塊化的工藝室,能夠提供非常高的均勻性和可重復性。這種工業級設備能夠同時進行蝕刻和灰化應用,非常適合在低至0.08 µm的狹窄幾何形狀上進行蝕刻。該工藝室由一種專利材料構成,旨在提供更好的抗腐蝕和處理性能。它還具有一個凹進,可更換水套改進基板冷卻。該工藝室包括一個堅固的蝕刻/灰壓板和一個靜電卡盤可重復的基板夾緊與最小化敏感性。這種壓板與鐘形罐同軸,提供了更精確的ultrathin薄膜蝕刻/灰分能力。對控制電子設備進行了改進,以提供具有集成圖形用戶界面的完全自動化的蝕刻過程。通過此界面,可以預置、存儲和跟蹤每個流程配方。此外,還有一個有效管理系統組件的綜合監督程序。這種設計提供了高精度的過程控制,在一致的晶圓溫度下具有均勻的覆蓋範圍。氣體輸送系統提供了對多個同時氣體流動的積極控制。在一個腔室內,最多可通過一個專用氣箱輸送三個氣源。氣箱包括一個集成的質量流控制器和氣體分析儀,具有靈活的采樣能力,用於勤奮的過程控制。還有一個內置的等離子體支持網絡,能夠感知和監測等離子體狀況。PCW 208電源單元是一種基於數字的高端電源,適用於大多數RIE蝕刻和灰化應用。該設備提供可調節的脈沖寬度和重復速率為擴展的過程範圍。它還設計有兩個獨立控制的輸出,當結合高陶瓷隔離變壓器。PLASMATHERM SLR-730能夠同時進行蝕刻和灰化應用。它的智能設計和高級控制提供了產生高質量結果所需的動力和精度。該設備非常適合要求均勻覆蓋且晶圓到晶圓變化較小的高級蝕刻工藝。憑借其集成的燃氣箱和高端PCW 208電源,SLR 730一定能證明自己是任何半導體制造商的寶貴資產。
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