二手 PLASMATHERM SLR 730 #9124186 待售

ID: 9124186
晶圓大小: 1"-8"
優質的: 1989
Shuttle lock PECVD deposition system, 1"-8" MKS 286 mass flow controller (7) MFCs (N2,N2,He,N2,NH3,SF6,N2 Power supply: RFPP 5S RF Matching network & tuner MKS 290 Ion gauge controller MKS 252 exhaust controller Watlow substrate heater Windows OS with monitor Keyboard & mouse 1989 vintage.
PLASMATHERM SLR 730是一款高精度、可編程的RF Under-etch Asher/Etch設備,用於金屬層的蝕刻和去除。其能力包括:蝕刻金、銅和鋁層;在金、銅和鋁層上蝕刻抗蝕劑圖樣;光致抗蝕劑層的灰化;在洗滌前應用溶劑和自動調溫輔助。該系統的特殊性在於,由於其高效利用射頻功率和短脈沖持續時間的可用性,它設計用於快速處理樣品。PLASMATHERM SLR-730的基本單元由等離子體發生器、斜面卡盤和射流室組成。等離子體發生器提供射頻能量,並提供蝕刻和灰化過程中蝕刻或去除光致抗蝕層所需的功率。還包括斜面罩鎖,以便對樣品進行可靠的真空密封。SLR 730還有一個用戶友好的界面,允許編程蝕刻和灰時間以及功率和溶劑水平。SLR-730的蝕刻速率為1.5至4.5 μ m/min,鋁的蝕刻速率為0.75至10.0 μ m/min。其腔室溫度範圍為25-250 °C,功率範圍為1-100瓦。此外,該裝置還具有可選擇的大氣環境,真空或壓力可達10 torr。由於脈沖持續時間的一致變化,它提供了具有良好的側壁蝕刻可預測性的可重復結果。機器還提供自動輔助溫度控制,幫助根據需要調整不同蝕刻或灰分配方的設置點。PLASMATHERM SLR 730具有多項獨特的安全功能,確保用戶和環境的安全。它有一個最小化聲響的噪聲吸收器和一個實時監控聲級的集成聲發射工具。還提供了一種細粒度的監視資產,可以在蝕刻/灰燼周期中向用戶發出可能的危險警報。該型號還設計用於在發生任何機械故障或停電時關閉。這些特點,加上設備的性能能力,使其成為實驗室、研究和生產設施的絕佳選擇。
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