二手 PLASMATHERM SLR 730 #9132975 待售

PLASMATHERM SLR 730
ID: 9132975
PECVD system, Single chamber configuration RFPP, RF5S generator plasmatherm, Process/Sequence controller 80486, PC control system sequential, Process capability vacuum, loadlock, Modular concept gases MKS 1160B, MFC 2000 sccm he brooks 5850, MFC 2000 sccm N2 brooks 5850, MFC 500 sccm N20 brooks 5850, MFC 20 sccm ammonia ebara A70W, Dry pump leybold D30A wet pump.
PLASMATHERM SLR 730是一款全自動的Etcher/Asher,設計用於多種精密應用。它是快速高效去除基板上薄膜沈積的理想選擇,也用於執行封裝、介電去除等工藝步驟。PLASMATHERM SLR-730具有許多獨特的特性,使其成為處理任何類型半導體結構的絕佳選擇。SLR 730有一個由不銹鋼製成的大型工作室,並配有高級工藝氣體輸送設備。這樣可以確保腔室在蝕刻或灰化過程中保持清潔和沒有汙染物。蝕刻和灰化工藝采用純氧氣和氙氣混合物,均勻性極好,蝕刻速度快,蝕刻精度很高。該工藝得到了專利的高熱效率5類保護氣體分配機制的支持,該機制允許高效的能量轉移和在樣品基板上均勻的蝕刻結果。該室還配備了定制的自調水蒸氣源和洗滌器,以確保在工藝步驟之間有效清潔該室。洗滌器清除顆粒物的腔室,確保相鄰表面區域在下一個工藝步驟之前完全清潔。SLR-730還配備了一個多方向激光剖面系統,能夠在整個過程中精確剖面。不斷監控蝕刻速率,確保輪廓均勻,多向激光剖面單元允許操作員在不過度蝕刻基板敏感區域的情況下最大化加工結果。此外,PLASMATHERM SLR 730還具有用戶友好的控制界面,允許對工藝參數進行調整,使操作員能夠輕松地根據所蝕刻材料的類型調整蝕刻和灰化工藝。這使操作員能夠輕松地優化每種基材類型的結果,並快速高效地確定最佳的工藝設置。總體而言,PLASMATHERM SLR-730是一款用途廣泛、功能強大的蝕刻器/asher,專為廣泛的精密應用而設計。它提供了在基板上快速有效地蝕刻或粉刷薄膜沈積的組合,以及執行封裝和去除介電等幾個工藝步驟的能力。用戶友好的控制界面使得工藝很容易根據基材類型量身定制,而適應性強的激光剖面機則允許精確的剖面圖。所有這些功能結合起來,為任何半導體結構提供了一個極其強大的蝕刻和灰化工具。
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