二手 PLASMATHERM SLR 770 ICP #293771258 待售

PLASMATHERM SLR 770 ICP是一款前沿的等離子體蝕刻器/asher設備，設計用於研究和工業環境中先進的半導體制造工藝。該系統提供卓越的工藝控制、精密的蝕刻能力以及卓越的均勻性,可用於高質量的設備制造。在PLASMATHERM SLR 770的核心是感應耦合等離子體（ICP）源，它產生一個高密度、低壓等離子體，用於高效和均勻的蝕刻。這項技術使該單元能夠實現高蝕刻速率和選擇性,同時保持對基板的低損傷,使其成為包括復合半導體加工、MEMS制造以及高級邏輯和內存設備在內的廣泛應用的理想選擇。該機設有寬敞的加工室，可容納直徑達200毫米的基板，允許批量加工和增加吞吐量。該室配有先進的溫度控制機制，以確保穩定的工藝條件和一致的結果跨越多個運行。此外，該腔室設計有優越的氣體分配和排氣系統，以保持均勻的等離子體密度和蝕刻剖面。SLR-770比較方案提供了廣泛的加工氣體和前體，以支持各種蝕刻化學和材料兼容性。該工具的氣體輸送資產配備了質量流量控制器，用於精確控制氣體流量，確保準確的過程控制和可重復性。此外，該模型還配備了高容量氣體消減設備，以安全清除蝕刻過程中產生的有毒副產物和廢氣。SLR 770的關鍵特性之一是其先進的射頻偏置能力，允許在蝕刻過程中獨立控制離子能量和底物溫度。此功能允許對工藝參數進行微調,以實現特定的蝕刻輪廓、選擇性和側壁鈍化,從而產生高質量的蝕刻特征,並最大程度地減少損壞和側壁粗糙度。該系統配備了用戶友好的界面和軟件控制單元，使流程參數的編程、監控和數據記錄變得容易。操作員可以使用直觀的界面輕松配置和優化蝕刻配方、運行診斷測試以及排除任何問題。機器還提供遠程監控功能，允許實時流程調整和性能優化。綜上所述,SLR 770 ICP是一款最先進的等離子體蝕刻器/asher工具,可為半導體制造應用提供先進的工藝能力、精確的控制和高可靠性。憑借其尖端的技術、卓越的性能和用戶友好的界面，這一資產是尋求以卓越的工藝控制和統一性實現高品質蝕刻特性的研究機構和半導體制造商的理想選擇。