二手 PLASMATHERM SLR 770 ICP #9363201 待售
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ID: 9363201
晶圓大小: 3"-6"
優質的: 1997
ICP Dry etcher, 3"-6"
RFPP AM-5 RF Match
ISA JOBIN YVON Sofie type LEM-1-CC controller
(4) Mass flow controllers
1997 vintage.
PLASMATHERM SLR 770 ICP是一款高精度的蝕刻器/asher,旨在提供精確的蝕刻和灰化工藝。它利用模塊化平臺提供了廣泛的蝕刻和灰化過程。此蝕刻器/asher設計為提供連續、可重復的過程,且維護和可重復性錯誤最小。PLASMATHERM SLR-770 ICP是一種利用低壓各向同性幹等離子體進行蝕刻的兩室蝕刻器/灰化器,以及用於灰化的高壓幹等離子體。低壓等離子體由等離子體發生器供應,由氧氣、氮氣和氙氣組成。高壓等離子體采用幹火花模式產生低壓電弧,產生汽化蒸發灰添加劑。然後將這兩個等離子體組合並儲存在隔離室中。材料的燃燒由PC在預處理階段啟動,並在蝕刻或灰化過程中繼續進行。由於材料是由兩個等離子體的組合蝕刻或灰化後,腔室再用氮氣清洗,以避免任何不良反應。SLR 770 ICP被設計成可與半導體或介電基板等蝕刻/防灰材料配合使用。蝕刻器/asher設計用於提供精確且可重復的蝕刻和灰化過程,以及保證一致的性能。該室還具有多種安全特性,包括:高溫關閉、地面故障中斷器(GFI)、控制電路和高壓隔離。高精度蝕刻器/asher采用了最先進的VHF-Arc等離子體技術,完全由計算機控制。這允許設置和存儲各種工藝參數,包括:蝕刻和灰分時間、溫度和壓力。使用一系列傳感器,如石英振蕩器、溫度和壓力傳感器,對該過程進行量化和測量。這使得可控制和可重復的過程可以跨多個基板執行。大型液晶顯示屏和直觀的用戶界面使SLR-770 ICP易於操作。此外,機器還可以配備工藝室監控攝像頭,允許用戶實時監控工藝室。這提供了額外的質量保證層,確保過程正確執行,並在後續基板上重復過程。總體而言,高精度的PLASMATHERM SLR 770 ICP被設計為蝕刻和灰化工藝的可靠且經濟高效的工具。模塊化平臺、先進的VHF電弧等離子體技術、高壓隔離、易用性和高精度,使得PLASMATHERM SLR-770 ICP成為尋求可靠蝕刻/asher解決方案的用戶的誘人選擇。
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