二手 PLASMATHERM SLR 770 MF #293763704 待售
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ID: 293763704
優質的: 2009
Etcher
Wafer stage: 100 mm
Plasma source: ECR
Frequency: 2.4 GHz
Gases: SF6, CF4, CHF3, N2, Ar, H2, O2
2009 vintage.
PLASMATHERM SLR 770 MF是一款先進的等離子體蝕刻器/asher設備，設計用於半導體行業的高性能半導體蝕刻和抗剝離應用。該系統采用了最先進的技術來提供半導體器件制造所必需的精確和可重現的蝕刻和灰化工藝。等離子體蝕刻和灰度功能在單個單元中的結合使得單反770 MF成為一種用途廣泛的半導體制造工藝應用工具。PLASMATHERM SLR 770 MF的核心是其卓越的等離子體生成和控制能力。該機器利用高密度感應耦合等離子體（ICP）源，生成由離子、自由基和中性物種組成的高反應性等離子體。這種等離子體對於蝕刻和灰化過程至關重要，因為它能夠以高的選擇性和精確度從半導體晶圓表面去除材料。SLR 770 MF中的ICP源的特點是穩定性和均勻性，確保整個晶圓的過程結果一致。PLASMATHERM SLR 770 MF具有先進的氣體輸送工具，可以精確控制蝕刻和灰化過程中使用的過程氣體。該資產支持各種氣體，包括在等離子體蝕刻過程中常用的氟基化學物質。氣體輸送模型使氣體的準確流量控制和混合達到所需的工藝條件，如蝕刻速率、選擇性和均勻性。此外，該設備還配備了先進的質量流量控制器和壓力調節器，以確保從運行到運行的重復過程條件。對於蝕刻應用，單反770 MF提供了一系列蝕刻化學和工藝配方，以滿足不同半導體器件結構的具體要求。該系統具有出色的蝕刻速率控制和側壁輪廓均勻性，具有高縱橫比特征的高分辨率模式傳輸過程。利用先進的端點檢測技術實時監測和控制蝕刻過程，以確保精確控制整個晶圓的蝕刻深度和均勻性。除了蝕刻能力外，PLASMATHERM SLR 770 MF還作為一種高性能的抗剝離和表面清潔工藝的asher。該裝置設有專用的等離子體灰化室，其工藝條件優化，可去除晶片表面的光刻膠和其他有機汙染物。SLR 770 MF的粉刷功能對於蝕刻後的清潔和晶片的制備對於隨後的工藝步驟，如沈積或光刻至關重要。總體而言，PLASMATHERM SLR 770 MF是一款用途廣泛、可靠的等離子體蝕刻機/asher機，滿足了半導體工業對先進設備制造工藝的嚴格要求。SLR 770 MF憑借其先進的等離子體生成和控制功能、精確的氣體輸送工具以及可定制的工藝配方,為半導體制造商提供了一個強大的工具,用於實現生產下一代半導體器件所必需的高質量蝕刻和灰化工藝。
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