二手 PLASMATHERM SLR 770 #9271304 待售

ID: 9271304
晶圓大小: 2"-8"
ICP Etcher, 2"-8" PC Controller Vacuum load lock with wafer transfer robot Currently configured with 3" kit Thermal transfer module cooling Substrate clamping Turbo pump With roughing pump Closed loop pressure control (8) MFC Gas controllers Gases: N2, O2, CHF3, AR, CH4, CL2, BCL3, CF4 Water chiller included.
PLASMATHERM SLR 770是專門為半導體制造應用而設計的蝕刻設備。其目的是從矽片等基板表面蝕刻掉多余的材料層。SLR 770利用基於等離子體的技術進行高效、高精度和可重復的蝕刻。系統由三個主要部件組成,一個電極(即位於單元底部附近的大電極)、一個離子源和一個蝕刻室。蝕刻室本身由不銹鋼製成,密封。在腔室內部,通過一系列氣體通道引入蝕刻氣體,並從邊緣周圍的噴嘴發出。然後使用射頻發生器創建等離子體場,使蝕刻氣體被激活和電離。由於工藝效率高,可以更精確地控制蝕刻,實現可重復的蝕刻輪廓。PLASMATHERM SLR 770可以蝕刻出多種材料,包括矽、多晶矽、金屬、玻璃、氧化物和氮化物。板載真空泵在蝕刻時確保腔室在低壓環境下運行,從而實現更好的蝕刻性能、重復性和精度。此外,該裝置還有一臺自動晶片處理機,使基材能夠快速輕松地放置在蝕刻室中,然後再取出。SLR 770還包括高級控制功能,允許用戶編寫適合不同作業和任務的蝕刻協議。例如,用戶可以設置一個程序,在一定深度進行蝕刻,使用特定的氣體成分,或者使用特定的蝕刻速率。這樣就可以根據任何工作的需要量身定制工具。總體而言,PLASMATHERM SLR 770是一種功能強大的蝕刻資產,專為最嚴格的半導體制造應用而設計。它具有精確的控制、可重復的蝕刻配置文件和高級編程功能,可提供高效的各種材料蝕刻,並具有極好的重復性。
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