二手 PLASMATHERM SLR 770 #9280190 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9280190
晶圓大小: 3"
優質的: 1997
Ion Coupled Plasma (ICP) system, 3"
Single chamber
Etcher with load lock SLR transfer load
700 Chamber
Electrodes
Loadlock
Source RF
Bias RF
Chiller
Ion gauge and controller
Distribution centers:
RPPP - RF5S / RP10 Power supply
With matching network / Equivalent
(6) Zones chamber controllers
Turbo pump and controller
Gate valve
Operating system: Windows
Flat panel LCD
Keyboard
Mouse
Set up for semi standard
SiC Wafers, 3"
Sapphire carriers, 4"
Ceramic clamp for single, 4"
He Backside cooling based, 4"
Gas distribution boxes:
(4) MFCs with gas lines for Chlorinated process
IPC System set up for Fluorine based chemistry
ICP System set up for Chlorine based chemistry
(2) Bypass valve lines per system
Heat exchanger: 208 V, 60 Hz
Dry pump: 208 V, 60 Hz
Power supply: 208 V, 60 Hz, 3 Phase
Manuals included
1997 vintage.
PLASMATHERM SLR 770是一款最先進的幹蝕刻和灰化設備，設計用於半導體行業的精密蝕刻和灰化。該系統以脈沖輝光放電（PGD）技術為基礎，旨在提供可靠、可重復的蝕刻參數。該裝置被開發用於廣泛的蝕刻和灰化應用，包括晶圓蝕刻、金屬蝕刻、絕緣蝕刻和使用多種不同氣體混合物的濕蝕刻。該機具有強大的13.56 MHz射頻電源、集成的溫度控制器和多個最大80 W的氣槍，使其適合各種工藝氣體進行各種蝕刻和灰化應用。該工具的工藝氣體資產能夠註入大量的混合氣組合，用於精確的工藝控制。該模型最多可支持8個順序過程步驟，以及最多5個獨立的氣流控制器，適用於氮氣、氧氣、氫氣、氙氣、FREA3、氯氟烴或其他類型的無活性氣體。支持多達8種組合,用戶可以輕松為許多蝕刻和灰化應用程序生成優化的工藝參數。SLR 770采用全天候無維護功能,消除了任何停機時間和延長的維護間隔。該設備還具有用戶友好的圖形用戶界面（GUI），其中包括配方和運行時管理、統計過程控制（SPC）以及過程參數可視化，為用戶的蝕刻和灰化過程提供了全面的控制系統。PLASMATHERM SLR 770的核心是SLR-20X先進的真空包裝。這種先進的真空包裝具有高達III到IV級的真空，並已設計成產生清潔蝕刻環境。SLR-20X封裝還設有一個平頂室，防止材料堆積，與恒定的射頻匹配網絡，確保精確和可重復蝕刻結果和減少蝕刻時間。單反770是任何蝕刻和灰化應用的絕佳選擇。此高級單元易於使用,為許多類型的蝕刻和灰化應用程序提供可靠且可重復的工藝參數。憑借強大的射頻電源、集成的溫度控制器和多門最大80瓦氣槍等先進功能,用戶可以確信他們擁有一臺蝕刻精度和可重復性最高的機器,使其成為任何蝕刻和灰化工藝的理想選擇。
還沒有評論