二手 PLASMATHERM SLR 770B #9302637 待售

ID: 9302637
晶圓大小: 4"
優質的: 1998
Deep Reactive Ion Etcher (DRIE), 4" With 6" kit Etching silicon uses photoresist mask Gasses: Argon for plasma Sulfur Hexafluoride (SF6) for Silicon etching Octafluorocyclobutane (C4F8) for passivation layer Oxygen (O2) for chamber clean Nitrogen (N2) for venting 1998 vintage.
PLASMATHERM SLR 770B是一種獨特的蝕刻和asher設備,它結合了單個平臺中的蝕刻和灰化過程。該系統利用一種專有的等離子體Lift™技術來實現更高的精度和可重復性以及顯著的成本節約。利用射頻和直流等離子體蝕刻和灰化工藝,該裝置非常適合各種蝕刻和灰化應用。例如,此技術用於控制整個不均勻掩碼中的蝕刻輪廓。標準的單反770B機提供了一個開載位置的特點,允許板載濕蝕刻和灰化過程。該工具還可以容納各種金屬或塑料基材料的基材,以實現更大的通用性。該機還設計了先進的快門和升降機資產,提供了最佳的蝕刻窗口,以促進均勻的蝕刻深度、輪廓控制和可重復性。此外,該模型還包括氮氣供應,以減少等離子體蝕刻和灰化過程中的汙染和氧化物。設備的直驅式輸送機系統提供一致且可定制的蝕刻和灰化速度,以實現最大的安全性和效率。PLASMATHERM SLR 770 B的溫度控制能力也確保了高效、高質量和安全的蝕刻和灰化過程,不受任何顆粒汙染。該單元還提供穿梭板、基座、升降機和口罩等多種配件,以滿足最苛刻的蝕刻和灰化需求。單反770B旨在滿足廣泛的生產要求。它提供了進行氮化物蝕刻、深矽溝蝕刻或小型高分辨率特征的能力,以及對有機殘留物或金屬的粉刷。該機器還提供更快的轉彎時間和安全、可重復性以及潔凈室安全操作。Lift™窗技術提高了保溫性能和均勻性,進一步提高了工藝的可重復性和質量。PLASMATHERM單反770B非常適合從尺寸從5到500 mm不等的基板上蝕刻或灰化高精度系統。其廣泛的安全特性提供了安全可靠的操作。該工具經過ISO 9001認證,非常適合需要一致、高質量蝕刻和灰化結果的用戶。具有競爭力的定價,單反770B是一個理想的投資對於那些需要一個蝕刻和asher資產。
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