二手 PLASMATHERM SLR 772 #9195260 待售

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ID: 9195260
晶圓大小: 4"
Etcher, 4" Adapter plates for 2" ALCATEL 5900 Turbo pump 700W ASTEX Microwave power supply: 2.45 GHz RF 5S 555W RF supply: 13.56 MHz Ultra low cooling option: Down to -150°C with LN2 Loadlock (Semi manually controlled with switches) TEKTEMP TKD-100 Heat exchanger ASTEX 1000W Microwave supply Spare ECR head Aluminum showerhead assembly Cooling ring for etch option Deos not include load lock pump Main console electronics Process / Sequence controller Core interface 252C-1-5 Exhaust valve controller AM-5 700 RF Matching network Fixed capacitance loading: 600 pF DC Probe range: 1000 V AMNPS-2A 700 Matching network power supply 290-03 Ion gauge controller 286 Thermocouple gauge controller Heater control box RF-5S RF Generator Output power: 555 Watts, 13.56 MHz HS-700 Microwave generator Output power: 700 Watts, 2.45 GHz Gas panel: Chamber 1: CH1 N2 FSF 20 SCCM CH2 N2 FSF 50 SCCM Chamber 2: CH1 C12 FSF 20 SCCM CH2 N2 FSF 20 SCCM Fluid input panel: Air regulator setting: 80 Psi Pressure switch: 70 Psi Input requirements: Compressed air: 80 Psi Nitrogen: 20 Psi Water: 20 Psi System power center: Line voltage: 208 VAC Maximum current: 60 Amps, 4-wire Motor starter overload current setting Mechanical pump: 6 Amps Vacuum pumps: 023-241 Lock mechanical pump Fluid type: Fomblin 14-6 Charge: 6 Kg TDK 100 Temperature control system Fluid type: 50/50 Glycol Local setpoints CH1: 25°C Aluminum chamber lid with 10" shower head Power: 208 V, 60 Hz, 100 Amp Manuals included.
PLASMATHERM SLR 772是一款最先進的蝕刻器/asher,為包括半導體蝕刻、材料研究和薄膜沈積等應用提供高精度的工藝能力。SLR 772以其先進的設計提供了高精度、重復性和統一的蝕刻和灰化工藝。該設備采用螺旋淋浴頭設計,提供均勻、穩定、便於進入蝕刻室和晶圓輸送機。噴頭向晶片提供精確、均勻的工藝參數,從而確保精確、均勻的蝕刻和灰化。PLASMATHERM SLR 772可以處理直徑最大5英寸的晶片,並且可以提供3 mTorr的最大壓力以及允許快速設置和運行時間的自動壓力控制功能。內置的集成真空計提供過程和校準驗證,可用於實時監測晶圓溫度。SLR 772附帶的高級軟件允許通過參數定制進行復雜的流程優化。通過盒式磁帶加載和卸載實現的自動晶片處理可確保最小的系統停機時間。一個可調的蝕刻/處理室允許各種晶圓尺寸被快速準確地處理。此外,蝕刻過程可以通過集成的計算機視覺單元進行監控,該單元提供詳細的過程分析。PLASMATHERM SLR 772提供了淺溝隔離(STI)蝕刻、閘門蝕刻、接觸孔蝕刻、掩埋閘門蝕刻、多晶矽蝕刻等多種蝕刻和加工應用。該機器提供非常高的處理速率,處理時間低至5秒。蝕刻工藝可以與等離子體沈積等其他工藝操作相結合,使設備制造具有較高的通量。SLR 772是各種應用要求的絕佳選擇,可提供一致、可重復的結果,並具有高效的過程和可重復性。PLASMATHERM SLR 772具有先進的特性和靈活性,是蝕刻和灰化應用的絕佳選擇。
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