二手 PLASMATHERM / UNAXIS 790 #9081010 待售

ID: 9081010
晶圓大小: 8"
優質的: 2003
Reactive Ion Etcher (RIE), 8" Manual load Non-load lock system RF Power supply with matching network RF 600 W Power supply LEYBOLD 361C Turbo pump with NT20 controller Gas distribution panel consisting of (4) MFCs per process side 2003 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS 790是為多用戶應用而設計的高精度、高通量等離子體蝕刻器/asher。它具有緊湊而堅固的設計,可與標準光刻技術和超精密圖樣技術一起使用。該設備采用先進的真空技術、低速、高壓等離子體和閉合截面室,以優異的蝕刻或灰化性能達到一致的效果。該系統容積為550升,可容納多達四個8英寸晶圓盒式磁帶。UNAXIS 790采用了可靠、方便用戶和高效的用戶界面。為每個腔室組件提供了單獨的過程控制模塊,以及用於調整關鍵參數(如蝕刻時間和壓力)和監控過程的可選軟件。內存功能允許輕松調用以前保存的進程和參數。該單元配備了兩個可獨立互換的等離子體源,包括一個用於蝕刻的高壓射頻源和一個用於蝕刻和後處理應用的氧氣灰化器源。此外,PLASMATHERM 790包含了自動過程控制(APC)和自動氣體控制(AGC)等先進的過程控制功能。有了這兩個功能,機器可以通過在用戶運行進程時進行必要的調整來保持進程的可重復性和準確性。該工具還包括一個雙級渦輪泵,能夠達到低至5 x 10-6至10-7 torr的基本壓力,從而確保高質量、低顆粒汙染等離子體腔環境。腔室的集成氣體分配資產可確保均勻的蝕刻或灰化率,且工作負載不均勻。790的蝕刻/灰化氣體(Ar、O2、Cl2、CF4、CHF3等)的選擇,其可調壓力範圍(20-150 mTorr)和進行正負蝕刻的能力,使其成為各種應用的理想蝕刻器/灰化器。為降低運營成本,該模型包括一個GasClean可編程氣體混合設備,它允許氣體混合的自動和遙控通道。這減少了所需的人工幹預量以及由此產生的氣體使用冗余,而內置氣體回收功能進一步降低了氣體成本。PLASMATHERM/UNAXIS 790具有先進的安全系統和隔熱系統,旨在提供最佳的單元性能,具有高工藝重復性和清潔安全的工作環境。
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