二手 PLASMATHERM / UNAXIS 790 #9116459 待售

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ID: 9116459
晶圓大小: 6"
Reactive Ion Etching (RIE) system, 6" Single chamber Single substrates diameter: Up to 150 mm Parallel plate plasma processing With shower head gas delivery system 6 MFC Gas channels Previous gases: AR, N2, O2, SF6, CHF3, CF4 Menu driven process programming Turbo pumped vacuum system with roughing pump RF Generator: 500 W, 13.56 MHz With matching network.
PLASMATHERM/UNAXIS 790是專門為生產高分辨率MEMS零件而設計的等離子體蝕刻和灰化設備。該系統具有閉環單元,以確保蝕刻和灰化的最高質量,從而產生形狀精確、特征極小的產品。蝕刻器有一個多軸晶圓轉換機,能夠精確處理和定位被蝕刻/粉刷的晶圓。它還有一個機器人轉移工具,用於晶圓的高效無人加載和最終產品的卸載。蝕刻資產采用了標準的IntelliFlow和軟件過程控制模型,可以輕松準確地控制蝕刻和灰度時間。磁增強的射頻能源提供了幾種不同的功率水平,使得它在晶圓上創建不同的蝕刻輪廓非常高效。也可以對設備進行調整,以創建不同的蝕刻和灰化輪廓。UNAXIS 790使用專利技術創建了一個排氣系統,以實現強勁的排氣流量和優化的工藝吞吐量。將被蝕刻/灰化的晶片放入真空室中,低壓高溫在75至2.75 torr範圍內。磁增強的射頻源則負責產生高能等離子體,然後繼續蝕刻和灰化晶片。然後收集蝕刻材料並將其移走。該單元提供多種特性,包括幹濕工藝、硬掩模兼容、可變壓力能力、精密晶圓處理以及多種工藝控制特性。這使得機器成為生產高分辨率MEMS產品的高效可靠的解決方案。PLASMATHERM 790提供了優異的工藝重復性、均勻性和產品產量。該工具還設計為適合任何大批量生產環境。所有工藝參數,如壓力、溫度和電壓,都由資產自動監控和控制,確保最高工藝質量。這也允許產生高度精確的晶圓蝕刻/灰化。
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