二手 PLASMATHERM / UNAXIS 790 #9350317 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9350317
晶圓大小: 8"
Reactive Ion Etcher (RIE), 8"
Non load-locked single chamber RIE
Electrode: 240 mm Diameter
System setup to process: Diameter InP wafers, 2"
RFPP RF Generator, 500 W
RF Match: 500 W
AMN Power supply
ION Gauge controller type: 290
LEYBOLD 361C Turbo pump
LEYBOLD NT 150 / 360 Controller
LEYBOLD NT 150 / 360 Controller (Spare parts)
MKS 1160B Mass Flow Controller (MFC)
EDWARDS QDP40 Dry pump
Manual
1995 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS 790是用於生產半導體器件的先進蝕刻器和asher。該裝置是一種全自動、高通量的設備，提供等離子體蝕刻和濕灰化功能。UNAXIS 790利用一個全封閉的鎖重室和機械轉移臂，以確保最高水平的性能和可重復性。自動化過程可確保安全、一致的蝕刻和灰化結果,最大樣品吞吐量為每小時60個晶圓。PLASMATHERM 790非常適合生產有源設備,包括MOSFET、CMOS、讀/寫存儲器、SRAM和DRAM。該系統的等離子體蝕刻過程基於矽烷（SiH4）氧和氫組成的三元氣體混合物，並由自動壓力控制單元調節。利用這一工藝，790可以蝕刻和清潔現代半導體器件的各種復雜層。PLASMATHERM/UNAXIS 790的功能還包括基材和斑點蝕刻、選擇性控制，以及用於均勻蝕刻的高溶液利用率和溫度控制。UNAXIS 790的灰化過程是基於利用高頻氣體和氧氣的濕法過程。這一過程是由一個自動壓力控制機控制的，該機利用電化學灰化來去除基板上的有機沈積物質。該工具的高效、精確的沖洗工藝減少了有機顆粒的汙染。PLASMATHERM 790提供了一系列面向流程的功能,有助於提高流程時間和生產率。這些特點包括一種可調節的氣體壓力資產，它允許等離子體蝕刻和濕灰化相結合。嵌入式軟件幫助用戶監控各種蝕刻和灰化參數，同時還提供日誌數據收集和分析功能。這些功能允許用戶精確監控和調整流程參數，以實現定制的流程結果。總之，790是一種先進的半導體器件生產蝕刻器和灰化器。該模型采用自動化流程,可提供高吞吐量和更高的生產率。該設備的等離子體蝕刻過程創建復雜的設備層的精度和精確度，而其濕灰化過程去除有機沈積材料。該設備還配備了一系列面向流程的功能,為用戶提供詳細且可重復的流程性能。
還沒有評論