二手 PLASMATHERM / UNAXIS CONCEPT 1 #9283558 待售

PLASMATHERM / UNAXIS CONCEPT 1
ID: 9283558
Plasma chemical vapor deposition furnaces.
PLASMATHERM/UNAXIS CONCEPT 1是一種先進的蝕刻/asher設備,用於精確的納米級圖案形成。它結合了高壓、高溫感應耦合等離子體源和獨特的模塊化樣品傳輸機制,實現了性能和吞吐量的提高。該系統能夠對各種材料進行高度精確、可重復的蝕刻和粉刷,具有從納米尺度到微米尺度的特點。該單元包括一個在大氣壓下運行的精確控制的感應耦合等離子體源和卡盤表面的原位清潔,以最大程度地減少晶圓對晶圓的變化。利用三區氣體分布對工藝氣體進行精確調整,既可利用流量控制,也可利用化學反應控制來管理蝕刻/灰分過程。樣品傳遞機制旨在最大限度地減少樣品對樣品的變化,並提供運動靈活性和控制,便於快速設置刀具。晶圓取向和配方存儲為復雜的蝕刻和灰化過程提供了高度優化的運行時間。UNAXIS CONCEPT 1還提供自主、高度控制的晶圓級環境控制,盡量減少工具和晶圓對工藝質量和可重復性的影響。該機配備了一系列的離子吸收器和壓力控制裝置,以及用於腔室清潔和可重復氣體輸送優化的可註入氣體管線。該工具提供用戶友好的軟件和硬件工具來控制和指揮資產。此外,該模型還配備了專利的純樣品氣體輸送設備,能夠優化蝕刻和灰化條件,直至幾納米。PLASMATHERM CONCEPT 1的一個組成部分是新開發的蝕刻監控系統,提供過程的實時控制。此單元包括一個順序傳感器堆棧,包括兩個溫度傳感器和一個壓力傳感器,以實現最佳的過程控制。該機器還包括一個非接觸式傳感器,用於監視蝕刻配置文件。CONCEPT 1的先進技術使其適用於廣泛的納米級器件制造工藝。它獨特的硬件/軟件工具組合和可重復的性能使超小型功能的生產能夠顯著減少變化。這使得它成為半導體生產應用的理想選擇。
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