二手 PLASMATHERM / UNAXIS SLR Series #293807239 待售

PLASMATHERM/UNAXIS SLR系列是一套專門為滿足半導體制造和研究應用的苛刻要求而設計的高級蝕刻器/asher系統。這些高性能的系統具有尖端技術和創新的設計元素,可提供卓越的工藝控制、高可重復性以及跨各種基板和工藝的出色蝕刻/灰度均勻性。UNAXIS SLR系列由一系列型號組成，每種型號都是為滿足特定的工藝需要而量身定制的，並適應不同的晶圓尺寸和生產量。這些系統配備了最先進的等離子體源、先進的氣體輸送系統、精確的溫度控制和靈活的工藝能力，從而能夠實現各種各樣的幹蝕和等離子體灰化應用。PLASMATHERM SLR系列的核心是一個高度通用的真空室，旨在提供均勻的等離子體分布和高效的氣面相互作用。腔室由優質材料構成，保證了優良的工藝穩定性、低顆粒生成和長期可靠性。它配備了先進的抽水系統，以實現快速抽水，並在整個過程中保持恒定的真空水平。SLR系列中使用的等離子體源基於先進的射頻（RF）和微波技術,可精確控制諸如密度、均勻性和離子能等等離子體參數。這些來源可以產生廣泛的等離子體化學，使各種材料的蝕刻/灰化，包括矽、二氧化矽、金屬、聚合物等等。該系統還具有先進的阻抗匹配網絡，以最大限度地提高等離子體功率傳遞效率並確保可靠的等離子體生成。PLASMATHERM/UNAXIS SLR系列氣體輸送系統設計用於精確控制工藝氣體和流速，以實現所需的蝕刻/灰分速率和選擇性。這些系統既支持通常用於半導體加工的標準氣體化學物質，如氧氣、氙氣、六氟化硫和氯氣，也支持針對特定應用量身定制的氣體混合物。氣體輸送系統配有質量流量控制器、壓力調節器、流量監測裝置，確保工藝條件準確、可重復。溫度控制是蝕刻/灰化過程的一個關鍵方面,UNAXIS SLR系列集成了先進的溫度控制系統,以實現晶圓表面的嚴密溫度均勻性。該系統具有集成的溫度監測傳感器、加熱元件和冷卻機制,可在整個過程中將晶片保持在所需的溫度。這種精確的溫度控制有助於最小化工藝變化，並確保從晶圓到晶圓的一致蝕刻/灰分結果。PLASMATHERM SLR系列還提供了一系列先進的過程控制功能，包括實時等離子體診斷、端點檢測算法、配方管理軟件和高級數據記錄功能。這些功能使用戶能夠優化流程參數，實時監控流程性能，實現高流程可重復性和收率。系統還配備了用戶友好的界面面板和直觀的軟件，方便操作和維護。總體而言，單反系列代表了在半導體行業中先進的蝕刻和等離子體灰化應用的最先進的解決方案。憑借其尖端技術、靈活的工藝能力和卓越的性能,這些系統非常適合各種研究和生產環境,在這些環境中,精度、可靠性和過程控制至關重要。