二手 PLASMATHERM / UNAXIS Versaline #9311006 待售
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ID: 9311006
晶圓大小: 4"
優質的: 2003
ICP Etcher, 4"
Loadlock
PM1 Chamber
Wafers type: Ceramic mechanical clamp
MX-400 Sidewinder wafer hander
SpectraWorks Optical endpointer
Gases: CF4, O2, N2, Ar, He, Cl2, BCl3, HBr
Heater:
JULABO Thermal H5S
JULABO Thermal H20S
Removed parts:
Turbo pump and turbo controller
Heat wrap for turbo
Roughing and backing pumps
RF Cables
Non-functional parts:
Wafer handler
BERKELEY 8-Axis controller
2003 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS Versaline是一種最先進的蝕刻/灰石技術,旨在為微電子工業中使用的多種材料生產高產和優越的表面質量。這款高科技蝕刻器/asher采用經過驗證的基於等離子體的工藝，能夠對所有材料（包括難以加工的金屬）進行精密的蝕刻和灰化操作。其主要特點包括高速率生產、低擁有成本、多功能性以及用於蝕刻和灰化機芯的快速循環時間。UNAXIS Versaline使用射頻功率產生高溫、高功率等離子體。這種熱能轉化為動能，用於驅動蝕刻和灰化過程。這項技術使PLASMATHERM Versaline能夠將蝕刻和灰化提高到更高的精度和精確度。Versaline 蝕刻器/asher還采用了獨特的增強型等離子體技術，使得能夠精確的溫度控制和等離子體均勻分布到工藝氣體中。這確保了對材料的統一處理，不會丟失腔室或材料。PLASMATHERM/UNAXIS Versaline是為方便維護而設計的,它包括許多清潔和過程監控功能。它還有一個簡化的控制系統，這有助於降低總擁有成本。此外，UNAXIS Versaline系統還設有一個低壓高輸出蝕刻室和一個密封蓋，以提高安全性，以及一個降低操作成本的低成本等離子火炬。PLASMATHERM Versaline能夠處理各種尺寸和類型的材料。它使用等離子體和磁場源的組合來實現高分辨率的表面蝕刻。Versaline可以以多種角度蝕刻，從直邊到有角度或彎曲的曲面。這使得在蝕刻不同形狀和尺寸的材料時具有很大的靈活性。此外,PLASMATHERM/UNAXIS Versaline還可以層壓材料層以創建多層結構,從而實現精確的公差過程。UNAXIS Versaline系統非常適合生產具有精確結果的批量流程。它非常適合高密度組件,如手機、高清電視顯示器和其他先進電子產品中的組件。這種高度可靠的蝕刻器/asher適用於各種制造工藝,為小型和大型生產作業提供了更高的生產率。PLASMATHERM Versaline也非常適合快速原型設計應用，因為它具有快速的周期時間和出色的過程控制。
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