二手 PLASMATHERM VLR #9156981 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 9156981
晶圓大小: 8"
優質的: 1998
ICP Bosch system, 8"
Cassette to Cassette System
(1) LM/TM module single load lock with single end effector
(1) ICP Bosch module
ESC chucks
ENI 600W RF power supply
Advanced Energy RFPP 10M RF power supply
Leybold 1000C turbo pump
NT20 controller
VAT PM5 Throttle valve controller
Leybold turbo pump with controller
Heated chamber walls with 6 zone controller
(4) MFCs
Windows OS with Plasmatherm Versaworks software
Keyboard and mouse
208V,60A, 60Hz
1998 vintage.
PLASMATHERM VLR是一種先進的蝕刻和灰化設備,旨在實現對各種基板的高精度陣列和處理。它采用高能電子回旋共振等離子體源與快速熱退火相結合,達到令人印象深刻的工藝精度和性能。VLR是一種全自動蝕刻和灰化系統,能夠處理尺寸從1到9英寸不等的基板。該裝置還采用了一系列的蝕刻氣體和氣體註入技術,以確保最佳的蝕刻效果。蝕刻過程由集成的計算機機器控制,允許設置和監視各種蝕刻參數。蝕刻過程完成後,基板迅速加熱以去除殘留的光致抗蝕劑,留下幹凈的表面準備進一步加工。PLASMATHERM VLR使用三源並行ECR等離子體源實現精確蝕刻條件。對ECR等離子體的嚴格控制允許對曲率半徑最小的深層結構進行高精度蝕刻。此外,根據特定工藝和基材定制蝕刻參數的能力意味著用戶可以獲得最佳的蝕刻結果。VLR還具有許多其他工藝功能,如蝕刻選擇性控制、基板偏置、深退火和等離子體預處理。這允許用戶根據自己的特定需求定制蝕刻和灰化過程。PLASMATHERM VLR還提供了一個集成的冷卻工具,以減少由於高蝕刻速率而造成的設備損壞,從而確保所有應用的最佳效果。綜上所述,VLR是一種先進的蝕刻和灰化資產,旨在對各種基板進行高精度的圖案和加工。該模型采用了ECR等離子體源和先進的熱退火技術的組合,以令人印象深刻的工藝精度和性能。此外,該設備還提供了一系列的蝕刻氣體和氣體噴射技術,以提供卓越的工藝控制。集成冷卻系統可確保設備不會因高蝕刻率而損壞。PLASMATHERM VLR具有全面的特點,是高品質蝕刻和灰化的完美工具。
還沒有評論