二手 PLASMATHERM VLR #9156983 待售

ID: 9156983
晶圓大小: 8"
優質的: 2002
ICP Bosch system, 8" Cassette to Cassette System (1) LM-TM: Single load lock with single end effector (2) VLR ICP Modules PM1 & PM2 Configuration: (4) MFCs VAT PM5 Throttle valve controller Leybold 1000C turbo pump with NT20 controller ENI 600W RF Power supply for lower electrode with matchwork and tunner Advanced energy RFPP 10M RF power supply Heated chamber walls with 6 zone controller Soffie class III laser endpoint on PM2 Windows OS with plamatherm versaworks software 208V, 30A,60Hz 2002 vintage.
PLASMATHERM VLR是一種為高通量、精密蝕刻和清潔應用而設計的蝕刻器和asher設備。該系統采用了創新的PlasmaPlus TM技術,用於先進的制造工藝。此過程將遠程等離子體、離子束和O2-glycol過程的電暈放電等離子體過程與氧等離子體過程結合起來,提供最高的蝕刻分辨率和清潔過程結果。VLR設備非常適合在各種表面和基板上的生產應用,包括玻璃、金屬和陶瓷。該計算機具有易於使用的用戶界面,允許高級流程控制。屏幕上的墻面菜單允許訪問多個參數和功能,用戶友好的Touchsensitive LCD觸摸屏允許簡單地執行操作命令。該工具具有功能強大的自動配方編輯器,允許用戶為經驗豐富的操作員調低參數或調高結果設置。資產由兩個相互連接的密室組成,它們構成其組合的蝕刻/清潔室。第一室是蝕刻室,由兩個「板」組成,一個底板和一個頂板。底板與一條分布的氣體入口源線相連,負責將反應性氣體物種輸送至基板表面。頂板裝有在基板表面產生等離子體的電極。第二個腔室是清潔室,配有夾具和噴嘴,用於輸送各種不同的清潔液。PLASMATHERM VLR模型采用了先進的高能效高密度等離子體(HDP)源,以確保反應性物質被有效地輸送到基質上,並獲得清潔和可重現的工藝結果。其他高級功能包括氣體交換、自動配方編輯器、快速處理時間和低擁有成本。總體而言,VLR蝕刻器和asher設備為高通量生產環境中的高級蝕刻和清潔應用提供了強大的解決方案。該系統先進的等離子體概念和高能效的HDP源技術以較快的工藝時間和較低的擁有成本提供了優越的工藝效果。單位人性化的界面、直觀的操作和自動化的配方編輯器,也確保了最高的蝕刻分辨率和幹凈的工藝效果能夠快速輕松地實現。
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