二手 PLASMATHERM VLR #9205768 待售
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ID: 9205768
晶圓大小: 6"-8"
優質的: 1996
Reactive Ion Etcher (RIE), 6"-8"
Wafer processing
LM / TM System
1996 vintage.
PLASMATHERM VLR是為半導體和晶圓級制造而設計的高效蝕刻器/asher設備。它配備了可產生高達3000瓦功率的直接驅動等離子發電機,能夠達到高達197攝氏度的溫度。VLR系統旨在提供精密和精確的亞微米蝕刻,提供非常幹凈的邊緣輪廓,具有極高的均勻性和產量。PLASMATHERM VLR單元具有先進的批處理控制器,以及環境控制單元(ECU),允許精確的溫度和清潔調節。VLR Machine還提供多種工藝選項,如超低壓蝕刻和1000 Hz熱爆破,以實現對工藝的最大控制。PLASMATHERM VLR Tool可以與幾種類型的材料一起使用,包括Copper、Aluminum和Triton 20材料,允許用戶從各種尺寸中選擇正在加工的小零件。此外,它還支持自動掩碼移位,允許在需要時快速精確地進行掩碼移位。該資產還提供了獨特的氣相蝕刻模型,該模型允許對聚合物和氧化物層進行等離子體處理,以及T型熔斷反應。VLR Equipment還擁有廣泛的安全系統,其中包括火焰陷阱、火災探測和火災報警器。所有安全措施確保用戶在使用設備時安全。PLASMATHERM VLR Machine具有直觀的圖形用戶界面,允許輕松修改過程參數、設置批次、運行配方和監視蝕刻過程。為了增加便利,該工具可以連接到一個網絡,允許它與其他系統通信。VLR Asset還有一個液晶顯示器(LCD),可以在蝕刻過程中輕松監控過程。總之,PLASMATHERM VLR模型是一種高效、高精度的半導體和晶圓級制造蝕刻/灰化設備。它配備了直驅等離子體發生器、先進的批量處理控制器和環境控制單元,允許精確的溫度和清潔調節。它還提供多種工藝選擇,包括超低壓蝕刻和1000 Hz熱爆破。此外,系統還配備了火焰陷阱、火災探測、火災報警等安全功能。直觀的圖形用戶界面和液晶顯示屏使得在蝕刻過程中監控過程變得容易。
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