二手 PLASMATHERM Wafer/Batch 740 #293595644 待售

PLASMATHERM Wafer/Batch 740
ID: 293595644
Dual plasma and Reactive Ion Etcher (RIE), 4".
PLASMATHERM Wafer/Batch 740是一款先進的蝕刻器/asher設備,旨在滿足半導體和其他需要高精度工藝控制的行業的多樣化需求。它是一個多合一的蝕刻/asher系統,使使用者能夠在基板的蝕刻和灰化上達到極高的精度。該單元采用多個獨立控制器,精確監控蝕刻和灰化工藝,以實現精密蝕刻能力和工藝可重復性。該機器包括對每個蝕刻器/洗衣機腔室的獨立配方控制,以及當多個腔室並行運行時的自動、可重復的過程控制。使用集成的交互式軟件模塊,用戶可以自定義蝕刻器/asher工具以滿足其確切的流程要求。該資產具有高級診斷功能,包括事件日誌記錄和流程數據存儲,以及功能強大、安全的訪問控制。該模型采用先進的微波增強電感耦合等離子體技術,提供了最高質量的蝕刻和灰化工藝,從而減少了對基板的汙染。有了多個等離子體源,設備可以在一個統一的過程中蝕刻和粉刷。該系統非常適合MEMS、微流體和高級封裝等高級制造應用。PLASMATHERM Wafer/Batch 740使用流程監控和分析套件,用戶可以在處理晶圓時精確監控流程參數。該裝置具有強大的自動校準和清潔功能。綜合安全和事件控制機器提供符合最嚴格的安全和過程標準。此外,該工具還具有集成的模具對準和SCARA機器人研發資產.該模型能夠產生可重復的結果和高精度的設備。它提供快速、一致的沈積和蝕刻工藝,並支持一系列先進的熔融和金屬化工藝。PLASMATHERM 晶片/Batch 740符合最苛刻的蝕刻和灰化應用的要求。憑借其極其靈活的設計和集成的模塊,用戶可以創建符合其確切規格和工藝要求的高效且經濟高效的晶圓處理解決方案。該設備是半導體和先進制造應用的理想解決方案。
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