二手 PLASMATHERM Wafer/Batch 741 #293595646 待售

PLASMATHERM Wafer/Batch 741
ID: 293595646
晶圓大小: 4"
Dual plasma and Reactive Ion Etcher (RIE), 4".
PLASMATHERM Wafer/Batch 741是一款等離子體加工蝕刻器/asher,設計用於在半導體行業中提供多種應用。它是利用雙頻等離子體源、蝕刻過程的高頻源和灰化階段的低頻源相結合的高精度設備。這種組合允許對蝕刻和灰燼參數進行高度的精度和控制,使其非常適合針對特定應用進行微調和優化性能。PLASMATHERM Wafer/Batch 741提供了廣泛的操作參數,允許量身定制蝕刻和灰燼工藝,以滿足客戶特定的要求。這提高了蝕刻和灰分應用的均勻性和表面質量。這種蝕刻器/asher的一個特點是它能夠容納直徑不超過200毫米的晶圓基板。此外,該模型在蝕刻室的正向表面附有獨特的氣體引入系統,確保了蝕刻室和灰室中工藝氣體的均勻和均勻流動。PLASMATHERM Wafer/Batch 741具有用戶友好和直觀的界面,該界面高度自動化,包括大量的流程監控和診斷例程。這些例程允許用戶在控制整個蝕刻和灰燼過程的同時監視溫度、壓力和其他參數。此外,系統還集成了自動故障檢測和恢復子系統,旨在確保始終獲得最佳結果。該蝕刻/灰分系統是半導體行業的理想解決方案,為晶圓和批量作業提供了經濟高效且可靠的工具。它簡化了流程,提高了產量,並為穩健的操作而設計。再者,隨著各種材料的明智使用,PLASMATHERM 晶圓/Batch 741可以對摻雜多晶矽的基材、金屬、電介質進行高質量的蝕刻和灰化。它的多功能性和性能使其成為希望提高生產效率和降低成本的公司的理想解決方案。
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