二手 PVA TEPLA 300 AL PC #293753962 待售

PVA TEPLA 300 AL PC
ID: 293753962
晶圓大小: 6"
優質的: 2004
Plasma asher, 6" 2004 vintage.
PVA TEPLA 300 AL PC是由等離子體表面處理溶液全球領先者PVA TEPLA AG制造的尖端等離子體蝕刻器/灰化器。這種先進的設備是專門為各個行業,如半導體、MEMS、光學、微電子等廣泛基板的精確高效等離子體加工而設計的。300 AL PC提供了用戶友好的界面、卓越的過程控制以及高可靠性,可實現一致和高質量的結果。PVA TEPLA 300 AL PC利用先進的等離子體技術,以高精度和均勻性蝕刻和灰分基板。該系統配有堅固耐用的鋁制腔室,確保出色的熱穩定性和高真空性能。該腔室的設計可以容納各種樣本量和形狀,使其在不同的應用中具有高度的通用性。此外,該室還具有可靠的氣體輸送和排氣系統,能夠精確控制工藝參數。300 AL PC的關鍵特征之一是其創新的等離子體生成單元。該機利用高頻射頻功率在腔內產生穩定均勻的等離子體放電。這種等離子體源對於激活氣體分子和產生與底物表面相互作用的反應性物質有選擇地蝕刻或灰燼材料是必不可少的。該工具允許精確控制等離子體參數,如氣體流速、壓力水平和功率設置,以優化特定應用的過程。PVA TEPLA 300 AL PC配備了先進的過程監控能力,以確保一致和可重現的結果。該資產具有實時等離子體診斷功能,如光學發射光譜和質譜,能夠對等離子體化學和過程動力學進行現場監測。此反饋回路允許對工藝參數進行實時調整,以保持最佳條件並實現所需的蝕刻或灰分速率。此外,300 AL PC配備了用戶友好的界面和直觀的軟件控制模型,簡化了操作和數據分析。該設備的軟件為通用流程提供了一系列預先編程的配方,並允許用戶自定義和保存其流程參數以備將來使用。此外,該軟件還提供全面的數據記錄和報告功能,使用戶能夠跟蹤流程性能並優化其工作流。總之,PVA TEPLA 300 AL PC是一種尖端的等離子體蝕刻器/灰化器,它為各種基材的精確和高效處理提供了先進的能力。憑借其創新的等離子體生成系統、穩健的腔室設計、先進的工藝控制特性,該單元非常適合研發、試生產、小批量制造應用。300 AL PC為等離子體處理設備設定了新標準,幫助客戶以無與倫比的精度和可靠性實現表面處理和材料處理的目標。
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