二手 PVA TEPLA / TECHNICS Plasma Excitor 3000-1 #62131 待售

PVA TEPLA / TECHNICS Plasma Excitor 3000-1
ID: 62131
Plasma desmearing or surface treatment system, vacuum pump with blower, as is.
PVA TEPLA/TECHNICS Plasma Excitor 3000-1是一種用於制造半導體器件的高性能蝕刻器和納米材料洗劑。它具有最先進的介電屏障放電(DBD)源,提供清潔、高效、低成本的蝕刻工藝。TECHNICS Plasma Excitor 3000-1使用平行板等離子體源,產生高功率,在大基板區域上均勻蝕刻,以及對小結構的清潔精確蝕刻。它還配備了先進的遙控設備,能夠對蝕刻和沈積過程進行復雜的圖樣處理。PVA TEPLA Excitor 3000-1的等離子體源提供了一種準確有效的蝕刻和沈積納米級材料的方法。遙控系統包括一個攝像頭,允許實時監控蝕刻過程,允許用戶微調特定應用的蝕刻參數。它非常適合生產復雜的光掩模、微流體器件和其他精細的半導體產品。Plasma Excitor 3000-1可以實現高達200 nm/min的蝕刻速率,並且能夠蝕刻多種材料,包括矽、復合半導體和金屬。除了蝕刻能力外,PVA TEPLA/TECHNICS Plasma Excitor 3000-1還具有先進的灰化裝置,允許用戶快速準確地將納米材料沈積到其底物上。Ashing machine works by duving off a inert gas packet, as argon, to product a precise and unified ashing process.這一過程極其精確和高效,非常適合將納米材料快速可靠地沈積到基板上。總之,TECHNICS Plasma Excitor 3000-1是一種先進的蝕刻和納米材料粉碎器,具有最先進的DBD源和先進的遙控工具,能夠對蝕刻和沈積過程進行精密的圖樣處理。它能夠蝕刻各種各樣的材料,包括矽、復合半導體和金屬,並且能夠達到高達200 nm/min的蝕刻速率。它還配備了先進的灰化資產,用於將納米材料快速精確地沈積到基板上。
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